The WPI-based film thickness values

The WPI-based film thickness values
were lower than those reported by Vachon, Yu, Yefsa,
Alain St-Gelais, and Lacriox (2000) with thicknesses of
0.05 to 0.06 ± 0.002 mm for the same material but crosslinked
by heating and irradiation. However, the values
were much higher than those reported by Simelane and
Ustunol (2005) who noted a thickness value of
0.14 ± 0.02 mm. This was due to differences in film-forming
solution formulations and procedures used.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ค่าความหนาของฟิล์มที่ใช้ WPIคนที่ต่ำกว่าที่รายงาน โดย Vachon ยู Yefsaไปเซนต์ Gelais และ Lacriox (2000) กับความหนาของ0.05-0.06 ± 0.002 มม.วัสดุเดียวกันแต่ crosslinkedโดยวิธีการฉายรังสีและความร้อน อย่างไรก็ตาม ค่าได้สูงกว่าผู้ที่รายงาน โดย Simelane และUstunol (2005) ที่ระบุค่าความหนาของ0.14 ± 0.02 มม. ซึ่งเกิดจากความแตกต่างในการขึ้นรูปฟิล์มสูตรแก้ปัญหาและใช้กระบวนการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

WPI
ตามค่าความหนาของฟิล์มมีค่าต่ำกว่าที่รายงานโดยชนยูYefsa,
Alain St-Gelais และ Lacriox (2000) ที่มีความหนาของ
0.05-0.06 ± 0.002 มมสำหรับวัสดุเดียวกัน
แต่เชื่อมขวางด้วยความร้อนและการฉายรังสี อย่างไรก็ตามค่าได้มากสูงกว่าที่รายงานโดย Simelane และ Ustunol (2005) ที่ตั้งข้อสังเกตค่าความหนาของ0.14 ± 0.02 มิลลิเมตร เพราะนี่คือความแตกต่างในการขึ้นรูปฟิล์มสูตรวิธีการแก้ปัญหาและวิธีการที่ใช้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

WPI ตามความหนาของฟิล์มค่า
ต่ำกว่าที่รายงานโดยแวเชิ่น ยู yefsa
, , Alain St gelais และ lacriox ( 2000 ) กับความหนาของ
0.05 0.06 ± 0.002 มิลลิเมตร วัสดุเดียวกัน แต่น้ำหนัก
โดยความร้อนและการฉายรังสี อย่างไรก็ตาม มีสูงมาก สูงกว่าค่า

ustunol และรายงานโดย simelane ( 2005 ) ที่ระบุความหนาของค่า
0.14 ± 0.02 มม.นี้คือเนื่องจากความแตกต่างในการให้โซลูชั่นสูตร
และขั้นตอนที่ใช้