The cleaned substrates were placed

The cleaned substrates were placed into the APTES
solution of 5.0 × 10−3 M in a mixture solvent of acetone and
ultra-pure water (v/v = 5:1), and kept for 3 h, followed by rinsing
with acetone and ethanol, the target monolayer of APTES
was thus formed on the hydroxylated silicon surface (Si–NH2).

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ทำความสะอาดพื้นผิวที่ถูกวางลงใน APTES
แก้ปัญหาของ 5.0 × 10-3 M ในตัวทำละลายส่วนผสมของอะซิโตนและ
น้ำบริสุทธิ์ (ปริมาตร / ปริมาตร = 5: 1) และเก็บไว้เป็นเวลา 3 ชั่วโมงตามด้วยการล้าง
ด้วยอะซิโตนและเอทานอล , monolayer เป้าหมายของการ APTES
จึงถูกสร้างขึ้นบนพื้นผิวซิลิกอน hydroxylated (Si-NH2)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การทำความสะอาดพื้นผิวที่ถูกวางไว้เป็นโซลูชั่นที่ aptes
5.0 × 10 − 3 M ในการผสมตัวทำละลายอะซิโตนและ
อัลตร้า น้ำบริสุทธิ์ ( v / V = 5 : 1 ) และเก็บไว้สำหรับ 3 ชั่วโมง ตามด้วยล้าง
ด้วยอะซิโตนและเอทานอล เป้าหมายอย่างของ aptes
จึงเกิดขึ้นบน hydroxylated ซิลิคอน พื้นผิว ( SI ) nh2 )