Means (±SE) were respectively 30.2±

Means (±SE) were respectively 30.2±0.9 %; 28.2±1.1 % and 18.7±1.6 %. At T15d, a higher % Phaeo awas observed on smooth substrates (W, S) than on meshed substrates (m, M).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หมายถึง (±SE) ตามลำดับได้ 30.2±0.9% 28.2±1.1% และ 18.7±1.6% ที่ T15d, %สูงกว่า awas แพ้วสังเกตบนเรียบพื้นผิว (W, S) กว่าบนพื้นผิวหน้าแบบตาข่าย (เมตร M)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หมายถึง (± SE) ตามลําดับ 30.2 ± 0.9%; 28.2 ± 1.1% และ 18.7 ± 1.6% ที่ T15d เป็น% สูง AWAS บ้านแพ้วสังเกตกับพื้นผิวเรียบ (W, S) กว่าบนพื้นผิวตาข่าย (M, M)