In the present work, in order to en

In the present work, in order to enhance deposition ion energy,
we synthesized ฟิล์ม using the hybrid cathodic arc and ion beam sputtering technique under different substrate bias.
The influence of substrate bias on films growth, microstructure and properties was investigated systematically

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในการทำงานปัจจุบัน เพื่อสะสมพลังงานไอออนเราสังเคราะห์ฟิล์มใช้ไฮบริดสลี cathodic arc และคานไอออนพ่นเทคนิคภายใต้ความโน้มเอียงของพื้นผิวที่แตกต่างกัน อิทธิพลของความโน้มเอียงของพื้นผิวฟิล์มเติบโต ต่อโครงสร้างจุลภาค และสมบัติถูกสอบสวนอย่างเป็นระบบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในการทำงานในปัจจุบันเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพในการสะสมพลังงานไอออน,
เราสังเคราะห์ฟิล์มโดยใช้อาร์ cathodic ไฮบริดและคานไอออนเทคนิคสปัตเตอร์ภายใต้พื้นผิวที่แตกต่างกันทำให้มีความลำเอียง.
อิทธิพลของสารตั้งต้นที่มีอคติต่อการเจริญเติบโตภาพยนตร์จุลภาคและคุณสมบัติได้รับการตรวจสอบอย่างเป็นระบบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในงานปัจจุบัน เพื่อเพิ่มพลังงานของไอออน
เราสังเคราะห์ฟิล์มโดยใช้ Cathodic Arc ไฮบริดและภายใต้พื้นผิวที่แตกต่างกันเทคนิค sputtering ลำแสงไอออน คติ
อิทธิพลของพื้นผิวอคติต่อการเจริญเติบโตภาพยนตร์ , โครงสร้างจุลภาคและสมบัติศึกษาอย่างเป็นระบบ