Many of the methods we have describ

Many of the methods we have described are
based on AFM technology, which currently suffers
from low throughput. Work is being done to increase
the scan speed using high-bandwidth mechanics
and by predistorting the drive for a step and
settle response faster than the mechanical
resonant frequency of the cantilevers would suggest.
Another effort to increase throughput is by creating parallel arrays of AFM tips, which have already
reached as many as 11 million tips for DPN
systems.
To improve e-beam and FIB systems, faster
beam-writing speeds using higher beam currents
and more sensitive resists are the order of the day.
In dynamic-stencil lithography, faster microelectromechanical
plates, smaller apertures, and large arrays
of apertures are where things are headed. In nanoimprint
techniques, efforts are focusing on better dimensional
stability and better overlay capabilities.
Nearly every area of applied physics and engineering
is involved in some aspect of nanomanufacturing.
Currently, each method fills a specific niche
in which it bests other approaches. By leveraging
the strengths of different technologies, researchers
are developing processes that combine multiple
techniques to write the highest-resolution masks
that can be projected or printed with high accuracy
and throughput. Clearly, the nanodevices of the future
will be built by optimizing and combining the
strengths of many technologies. There will never
again be a one-size-fits-all approach, as optical lithography
has been over the past four decades.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เราได้อธิบายวิธีการหลายด้านเทคโนโลยี ซึ่งทนทุกข์ทรมานอยู่ในขณะนี้จากข้อมูลต่ำ ทำงานจะมีการทำเพิ่มความเร็วการสแกนที่ใช้แบนด์วิดธ์สูงกลศาสตร์โดย predistorting ไดรฟ์สำหรับขั้นตอน และชำระตอบสนองเร็วกว่าตัวกลความถี่เรโซแนนซ์ของ cantilevers จะแนะนำอื่นพยายามเพิ่มอัตราเร็วจะสร้างอาร์เรย์แบบขนานของเคล็ดลับด้าน ซึ่งมีอยู่แล้วถึงเคล็ดลับเป็น 11 ล้านสำหรับ DPNระบบการปรับปรุงอีลำ และโกหกระบบ เร็วคานคานเขียนความเร็วสูงใช้กระแสและทนทานต่อการอ่อนไหวมากมีสั่งของวันในการทำลวดลายวงจรแบบลายฉลุ microelectromechanical เร็วขึ้นแผ่น รูรับแสงที่เล็ก และอาร์เรย์ขนาดใหญ่ของแสงอยู่ที่หัวหน้าสิ่ง ใน nanoimprintเทคนิค ความพยายามเน้นมิติดีกว่าความเสถียรและสามารถซ้อนทับดีกว่าเกือบทุกพื้นที่ของฟิสิกส์และวิศวกรรมมีส่วนร่วมในบางแง่มุมของ nanomanufacturingในปัจจุบัน แต่ละวิธีกรอกข้อมูลเฉพาะช่องที่มัน bests วิธีการอื่น ๆ โดยใช้ประโยชน์จากจุดแข็งของเทคโนโลยีที่แตกต่าง นักวิจัยมีการพัฒนากระบวนการที่รวมหลายเทคนิคการเขียนรูปแบบความละเอียดสูงสุดที่สามารถคาดการณ์ หรือพิมพ์ ด้วยความแม่นยำสูงและอัตราความเร็ว อย่างชัดเจน nanodevices ในอนาคตจะถูกสร้างขึ้น โดยการเพิ่มประสิทธิภาพการจุดแข็งของเทคโนโลยีต่าง ๆ จะไม่มีเป็นวิธีการแบบธรรมดา การทำลวดลายวงจรแสงอีกมีสี่ทศวรรษ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หลายวิธีการที่เราได้อธิบายจะ
ขึ้นอยู่กับเทคโนโลยี AFM ซึ่งขณะนี้ได้รับความทุกข์
จากการส่งผ่านต่ำ การทำงานจะถูกดำเนินการเพื่อเพิ่ม
ความเร็วในการสแกนโดยใช้กลไกที่มีแบนด์วิธสูง
และ predistorting ไดรฟ์สำหรับขั้นตอนและ
ชำระตอบสนองได้เร็วกว่ากล
สะท้อนความถี่ของ cantilevers จะแนะนำ.
ความพยายามที่จะเพิ่ม throughput ก็คือโดยการสร้างอาร์เรย์แบบขนานของเคล็ดลับ AFM ซึ่งมีอยู่แล้ว
ถึงมากที่สุดเท่าที่ 11 ล้านเคล็ดลับสำหรับการ DPN
ระบบ.
เพื่อปรับปรุง E-คานและระบบตอแหล, เร็วกว่า
ความเร็วคานเขียนโดยใช้กระแสลำแสงสูง
และทนทานต่อความสำคัญมากขึ้นเป็นลำดับของวันที่.
ในแบบไดนามิกลายฉลุพิมพ์หิน ได้เร็วขึ้นจุลภาค
จาน, รูรับแสงขนาดเล็กและขนาดใหญ่อาร์เรย์
ของรูรับแสงเป็นสิ่งที่กำลังมุ่งหน้าไป ใน nanoimprint
เทคนิคความพยายามที่จะมุ่งเน้นไปที่ดีกว่ามิติ
ความมั่นคงและความสามารถในการซ้อนทับที่ดีกว่า.
เกือบทุกพื้นที่ของฟิสิกส์ประยุกต์และวิศวกรรม
ที่มีส่วนเกี่ยวข้องในทุกด้านของการผลิตนาโนบาง.
ปัจจุบันแต่ละวิธีเติมเฉพาะเจาะจง
ในการที่จะ bests วิธีการอื่น ๆ โดยใช้ประโยชน์จาก
ความแข็งแกร่งของเทคโนโลยีที่แตกต่างกันนักวิจัย
กำลังพัฒนากระบวนการที่รวมหลาย
เทคนิคในการเขียนมาสก์ความละเอียดสูงที่สุด
ที่สามารถคาดการณ์หรือพิมพ์ที่มีความแม่นยำสูง
และผ่าน เห็นได้ชัดว่า nanodevices ในอนาคต
จะถูกสร้างขึ้นโดยการเพิ่มประสิทธิภาพและการรวม
จุดแข็งของเทคโนโลยีหลาย จะไม่มี
อีกครั้งจะเป็นหนึ่งขนาดเหมาะกับทุกวิธีการเช่นเดียวกับการพิมพ์หินออปติคอล
ได้รับที่ผ่านมาสี่ทศวรรษที่ผ่านมา

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

หลายวิธีการที่เราได้อธิบายไว้เป็นบนพื้นฐานของ AFM เทคโนโลยี ซึ่งขณะนี้ได้รับความทุกข์จากอัตราความเร็วต่ำ งานจะถูกทำเพื่อเพิ่มสแกนความเร็วสูงโดยใช้กลศาสตร์แบนด์วิดธ์และ predistorting ไดรฟ์สำหรับขั้นตอนและจัดการการตอบสนองเร็วกว่าเครื่องจักรกลความถี่เรโซแนนซ์ของ cantilevers จะแนะนําอีกหนึ่งความพยายามที่จะเพิ่มการส่งผ่านโดยการสร้างอาร์เรย์ของ AFM ขนานซึ่งมีเคล็ดลับถึงเคล็ดลับหลาย dpn 11 ล้านระบบเพื่อปรับปรุงระบบและ e-beam พราง ได้เร็วขึ้นเขียนความเร็วในการใช้กระแสสูงกว่าคาน คานและมีความละเอียดอ่อนมากขึ้นต่อต้านมีคำสั่งของวันในรุ่นเร็ว microelectromechanical ลายฉลุแบบไดนามิกจานเล็ก แสงและอาร์เรย์ขนาดใหญ่ของแสงเป็นสิ่งที่อยู่กำลังมุ่งหน้าไปที่ไหน ใน nanoimprintเทคนิค ความพยายามจะเน้นมิติดีกว่าเสถียรภาพและดีกว่าข้อมูล ความสามารถในการเกือบทุกพื้นที่ของฟิสิกส์และวิศวกรรมเกี่ยวข้องในบางแง่มุมของ nanomanufacturing .ซึ่งแต่ละวิธีเติมเต็มช่องที่เฉพาะเจาะจงที่ที่สุดวิธีอื่น ๆ โดยการใช้ประโยชน์จากจุดแข็งของเทคโนโลยีที่แตกต่างกัน นักวิจัยมีการพัฒนากระบวนการที่รวมหลาย ๆเทคนิคการเขียนรูปแบบความละเอียดสูงสุดที่สามารถคาดการณ์หรือพิมพ์ที่มีความแม่นยำสูงและอัตรา ชัดเจน nanodevices แห่งอนาคตจะถูกสร้างขึ้นโดยการเพิ่มประสิทธิภาพและการรวมจุดแข็งของเทคโนโลยีมากมาย จะ ไม่อีกครั้งเป็นหนึ่งขนาดเหมาะกับทุกวิธีการ เป็น optical ลิโทกราฟีได้รับที่ผ่านมาสี่ทศวรรษที่ผ่านมา