3.2 growth enhanc ement:weight th

3.2 growth enhanc ement:weight
the radish sprouts were brought in to dehydrate after measuring the length of radish sprout.the radish sprouts were dehydrated at 105 degree celsius for 3 hours by a MEMMERT UM 500 universal oven and weighed by a mettler toledo PL303 analytical balance.the comparative results of the total mass of dehydrated radish sprout from various experimental conditiions are illustrated in Fig.2(b).the total mass was calculated in percentages from the ratio of the weight of sprout between pre and post dehydration process.from the results,if could be observed that 4 csses out of 6 had a greater total mass compared to the controlled case.for the other 2 cases,ther had a slightly lower total mass compared to the controlled case.this could be implied that plasma treatment has a positive effect on germination enhancement. The 140 watts plasma generation power case had slightly higher total mass compared to the 90 watts case.it could be clearly noticed that the total mass of 140 watts plasma treatments for every treatment time had a higher total mass compared to the controlled case of 9-12 percent,approximately.it seems that increasing the discharge time could enhance the germination rate as noticed in the 90 watts of plaama generation;however,increasing of discharge time for the higher generation of power could lessen the germination rate. This problem is possibly caused by the fact that an excessively high plasma power could heat and damage some parts of the seeds. For the detailed explanation of this reason,it will be discussed in the further study of this research topic.which this plasma jet model will be applied to. Even though the mechanism on how the plasma affected seed germination enhancement is still unclear at this moment,one possible reason that plasma can enhance the growth rate is that the skin of the seed irradiated by plasma will be sputtered by plasma. The thin and soft skin allows the seed to absorb water and nutrition efficiently. Moreover,the radical species from plasma would cause a chemical reaction on the skin of seed.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เติบโต 3.2 enhanc ement:weight the radish sprouts were brought in to dehydrate after measuring the length of radish sprout.the radish sprouts were dehydrated at 105 degree celsius for 3 hours by a MEMMERT UM 500 universal oven and weighed by a mettler toledo PL303 analytical balance.the comparative results of the total mass of dehydrated radish sprout from various experimental conditiions are illustrated in Fig.2(b).the total mass was calculated in percentages from the ratio of the weight of sprout between pre and post dehydration process.from the results,if could be observed that 4 csses out of 6 had a greater total mass compared to the controlled case.for the other 2 cases,ther had a slightly lower total mass compared to the controlled case.this could be implied that plasma treatment has a positive effect on germination enhancement. The 140 watts plasma generation power case had slightly higher total mass compared to the 90 watts case.it could be clearly noticed that the total mass of 140 watts plasma treatments for every treatment time had a higher total mass compared to the controlled case of 9-12 percent,approximately.it seems that increasing the discharge time could enhance the germination rate as noticed in the 90 watts of plaama generation;however,increasing of discharge time for the higher generation of power could lessen the germination rate. This problem is possibly caused by the fact that an excessively high plasma power could heat and damage some parts of the seeds. For the detailed explanation of this reason,it will be discussed in the further study of this research topic.which this plasma jet model will be applied to. Even though the mechanism on how the plasma affected seed germination enhancement is still unclear at this moment,one possible reason that plasma can enhance the growth rate is that the skin of the seed irradiated by plasma will be sputtered by plasma. The thin and soft skin allows the seed to absorb water and nutrition efficiently. Moreover,the radical species from plasma would cause a chemical reaction on the skin of seed.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

3.2 การเจริญเติบโตและเพิ่ม ement: น้ำหนัก
ถั่วงอกหัวไชเท้าที่ถูกนำเข้ามาเพื่อเอาน้ำออกหลังจากการวัดความยาวจากหัวไชเท้า sprout.the ถั่วงอกหัวไชเท้าเป็นอบแห้งที่อุณหภูมิ 105 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 3 ชั่วโมงโดยเตาอบสากล MEMMERT UM 500 และชั่งน้ำหนักโดย Toledo METTLER PL303 ชั่งวิเคราะห์ ได้โดยง่ายผลการเปรียบเทียบของมวลรวมของถั่วงอกหัวไชเท้าแห้งจาก Conditiions ทดลองต่างๆที่แสดงในรูปที่ 2 (ข) ได้โดยง่ายมวลรวมที่คำนวณได้ในอัตราร้อยละจากอัตราส่วนของน้ำหนักของถั่วงอกระหว่างก่อนและหลังการคายน้ำในกระบวนการผลิต ผลลัพธ์ถ้าอาจจะมีการตั้งข้อสังเกตว่า 4 csses จาก 6 มีมวลรวมมากขึ้นเมื่อเทียบกับการควบคุม case.for อีก 2 กรณีบิดามีมวลรวมลดลงเล็กน้อยเมื่อเทียบกับ case.this ควบคุมอาจจะส่อให้เห็นว่าการรักษาพลาสม่ามี ผลบวกในการเพิ่มประสิทธิภาพการงอกของเมล็ด 140 วัตต์กรณีกระแสไฟฟ้าพลาสม่ามีมวลรวมสูงขึ้นเล็กน้อยเมื่อเทียบกับ 90 วัตต์ case.it อาจจะสังเกตเห็นได้อย่างชัดเจนว่ามวลรวมของ 140 วัตต์การรักษาพลาสม่าสำหรับเวลาในการรักษาทุกคนมีมวลรวมที่สูงขึ้นเมื่อเทียบกับกรณีการควบคุม 9- ร้อยละ 12 approximately.it ดูเหมือนว่าเพิ่มเวลาการปล่อยสามารถเพิ่มประสิทธิภาพของอัตราการงอกเป็นสังเกตเห็นใน 90 วัตต์รุ่น plaama แต่ที่เพิ่มขึ้นของเวลาจำหน่ายสำหรับรุ่นที่สูงขึ้นของการใช้พลังงานสามารถช่วยลดอัตราการงอก ปัญหานี้อาจเกิดจากความจริงที่ว่าพลังพลาสม่าสูงมากเกินไปอาจเกิดความร้อนและความเสียหายบางส่วนของเมล็ด สำหรับคำอธิบายรายละเอียดของเหตุผลนี้ก็จะมีการหารือในการศึกษาต่อไปของงานวิจัยนี้ topic.which รุ่นเจ็ทพลาสม่านี้จะถูกนำไปใช้กับ แม้ว่ากลไกในการพลาสม่าได้รับผลกระทบการเพิ่มประสิทธิภาพการงอกของเมล็ดยังไม่ชัดเจนในขณะนี้เหตุผลหนึ่งที่เป็นไปได้ว่าพลาสม่าสามารถเพิ่มอัตราการเจริญเติบโตคือการที่ผิวของเมล็ดพันธุ์โดยการฉายรังสีพลาสม่าจะได้รับการพ่นโดยพลาสม่า ผิวนุ่มบางเบาช่วยให้เมล็ดพันธุ์ในการดูดซับน้ำได้อย่างมีประสิทธิภาพและโภชนาการ นอกจากนี้ยังมีสายพันธุ์ที่รุนแรงจากพลาสม่าจะทำให้เกิดปฏิกิริยาทางเคมีบนผิวของเมล็ด