In this study, we investigated the

In this study, we investigated the effects of post-annealing on the microstructure of sputtered Bi-Te thin films annealed at various temperatures by carefully analyzing the microstructure with XRD and scanning electron microscopy (SEM).


In addition, we checked how the microstructure changes affected the electrical and thermoelectric properties by measuring the carrier concentrations, electron mobilities and Seebeck coefficients.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในการศึกษานี้ เราตรวจสอบผลกระทบของการอบเหนียวหลังบนต่อโครงสร้างจุลภาคของ sputtered Bi เต้บางฟิล์ม annealed ที่อุณหภูมิต่าง ๆ โดยละเอียดวิเคราะห์ต่อโครงสร้างจุลภาค ด้วย XRD และการสแกน microscopy อิเล็กตรอน (SEM) นอกจากนี้ เราตรวจสอบการเปลี่ยนแปลงต่อโครงสร้างจุลภาคกระทบคุณสมบัติแบบเทอร์โมอิเล็กทริกส์ และไฟฟ้า โดยการวัดความเข้มข้นของบริษัทขนส่ง mobilities อิเล็กตรอน และสัมประสิทธิ์ Seebeck

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การศึกษาผลของการอบอ่อน โพสต์ บนโครงสร้างจุลภาคของฟิล์มบางเคลือบอนุภาคบีทีอบที่อุณหภูมิต่างๆ โดยรอบคอบ วิเคราะห์โครงสร้างจุลภาคด้วย XRD และกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด ( SEM )


นอกจากนี้ เราตรวจสอบว่า โครงสร้างการเปลี่ยนแปลงที่มีผลต่อคุณสมบัติทางไฟฟ้า และ เทอร์โม โดยวัดความเข้มข้นของผู้ให้บริการ ,mobilities อิเล็กตรอนและสัมประสิทธิ์วัด .