Puresilica with 6N HCl solution was

Puresilica with 6N HCl solution was subjected to continuous refluxing the temperature at 80 - 90º C for
8 h. After refluxing the sample was washed with more amount of warm distilled water to become alkali fre and
then hot air oven dried. Afterwards 80 ml of 2.5 N sodium hydroxide was aded to the silca powder under
constant stiring for 9 h. Then con HCl was aded to the solution until a white precipitate was formed. The
precipitate was washed thoroughly by warm triple distiled water for neutrality. The synthesized nanosilca was
dried in a hot air oven at 10º C for 24 h.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Puresilica กับการแก้ปัญหา 6N HCl ถูกยัดเยียดให้กรดอย่างต่อเนื่องอุณหภูมิที่ 80 - 90 องศาเซลเซียสเป็นเวลา
8 ชั่วโมง หลังจากกรดตัวอย่างถูกล้างด้วยจำนวนเงินที่มากขึ้นของน้ำกลั่นที่อบอุ่นจะเป็น fre ด่างและ
อากาศร้อนแล้วนำมาอบแห้ง หลังจากนั้น 80 มิลลิลิตร 2.5 ยังไม่มีโซเดียมไฮดรอกไซถูก Aded ผง silca ภายใต้
stiring คงที่สำหรับ 9 ชั่วโมง แล้ว con HCl ถูก Aded เพื่อแก้ปัญหาจนตะกอนสีขาวที่ถูกสร้างขึ้น
ตะกอนถูกล้างให้สะอาดด้วยน้ำอุ่น distiled สามสำหรับความเป็นกลาง nanosilca สังเคราะห์ได้รับการ
อบแห้งในเตาอบลมร้อนที่10º C เป็นเวลา 24 ชั่วโมง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ทัวร์ puresilica กับกรดไฮโดรคลอริกกรดอย่างต่อเนื่องภายใต้อุณหภูมิ 80 - 90 º C
8 H . หลังจากล้างด้วยกรดจำนวนปริมาณมากที่อบอุ่นน้ำเป็นด่าง FRE และ
แล้วลมร้อนแห้ง หลังจากนั้น 80 ml 2.5 N โซเดียมไฮดรอกไซด์เป็น aded ให้ผง SILCA ภายใต้
คง stiring 9 hทัวร์ puresilica กับกรดไฮโดรคลอริกกรดอย่างต่อเนื่องภายใต้อุณหภูมิ 80 - 90 º C
8 H . หลังจากล้างด้วยกรดจำนวนปริมาณมากที่อบอุ่นน้ำเป็นด่าง FRE และ
แล้วลมร้อนแห้ง หลังจากนั้น 80 ml 2.5 N โซเดียมไฮดรอกไซด์เป็น aded ให้ผง SILCA ภายใต้
คง stiring 9 hแล้วคอน hcl คือ aded เพื่อแก้ปัญหาจนเป็นตะกอนขาวอีกครั้ง
ที่ถูกล้างให้สะอาดด้วยน้ำอุ่น distiled สามเพื่อความเป็นกลาง ได้ถูก
nanosilca แห้งในตู้อบลมร้อนที่ 10 º เป็นเวลา 24 ชั่วโมง