and a novel deep reactive-ion etch

and a novel deep reactive-ion etch is used for shaping
of the substrates

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

และนวนิยายลึกปฏิกิริยาไอออนกัดใช้สำหรับกำหนดรูปร่างของพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

และกัดปฏิกิริยาไอออนนวนิยายลึกจะใช้สำหรับการสร้างรูปร่างของพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

และนวนิยายลึกปฏิกิริยาไอออนแกะสลักใช้รูปร่าง
ของพื้นผิว