Chromium nitride films have been de

Chromium nitride films have been developed as an ‘industry
standard’ coating for tribological or decorative applications [1–3]. For
reactively sputtered films the predominant structure that forms
depends on a number of deposition parameters, which control the
energy delivered to the growing film. This includes the bias applied to
the substrate, both in terms of its magnitude and the mode in which it is
delivered (i.e. RF, DC, pulsed DC, etc.). In this study the system has been
characterised to identify the optimum conditions for CrN deposition,
then the effect of pulsing the substrate bias in the mid-frequency range
(100–350 kHz) during both the ion etching and deposition stages has
been investigated. Previous studies have shown that this can signifi-
cantly increase the ion current drawn at the substrate, possibly due to
the initiation of a second plasma discharge [4] in front of the substrate
compared to DC biasing and thereby provide enhanced deposition
conditions [5–7]. The earlier studies utilised pulsed biasing during the
deposition of TiO2 and TiN coatings. This is the first study in which this
technique has been applied to CrN films and builds upon earlier
published work [8] into the effects of ion energy and nitrogen content.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โครเมียมไนไตรน์ภาพยนตร์ได้รับการพัฒนาเป็นการ ' อุตสาหกรรมมาตรฐาน ' สำหรับการใช้งาน tribological หรือตกแต่ง [1-3] สำหรับภาพยนตร์ที่โดดเด่นนี้ในเชิงโต้ตอบ sputtered โครงสร้างรูปแบบที่ขึ้นอยู่กับจำนวนพารามิเตอร์ที่สะสม ซึ่งควบคุมการพลังงานส่งฟิล์มเติบโต มีอคติกับทั้งใน แง่ของขนาดและโหมดที่เป็นพื้นผิวจัดส่ง (เช่น RF, DC, DC ตัว ฯลฯ) ในการศึกษานี้ ระบบนี้ได้ลักษณะการระบุเงื่อนไขที่เหมาะสมสำหรับสะสม CrNแล้วผลของความโน้มเอียงของพื้นผิวในช่วงความถี่กลางโหยหวน(100 – 350 kHz) แกะสลักไอออนและเพิ่ม ขั้นตอนได้รับการตรวจสอบ การศึกษาก่อนหน้านี้ได้แสดงให้เห็นว่า นี้สามารถพลาดหรือเพิ่มขึ้นไอออนปัจจุบันวาดที่พื้นผิว อาจเนื่องจากเริ่มต้นที่สองที่ออกพลาสม่า [4] ด้านหน้าพื้นผิวเมื่อเทียบกับการให้น้ำหนักกับ DC และจึงให้สะสมเพิ่มขึ้นสภาพ [5-7] การศึกษาก่อนหน้านี้ใช้การให้น้ำหนักกับตัวในระหว่างการสะสมของ TiO2 และดีบุกเคลือบ นี้เป็นการศึกษาแรกนี้เทคนิคที่ใช้กับฟิล์ม CrN และสร้างเมื่อก่อนหน้านี้งานเผยแพร่ [8] เป็นผลของเนื้อหาพลังงานและไนโตรเจนไอออน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภาพยนตร์โครเมียมไนไตรด์ได้รับการพัฒนาในฐานะที่เป็นอุตสาหกรรม
มาตรฐาน 'เคลือบสำหรับการใช้งาน tribological หรือตกแต่ง [1-3] สำหรับ
ภาพยนตร์พ่นเชิงโครงสร้างที่โดดเด่นที่รูปแบบ
ขึ้นอยู่กับจำนวนของพารามิเตอร์การสะสมซึ่งควบคุม
พลังงานส่งมอบให้กับภาพยนตร์ที่กำลังเติบโต ซึ่งรวมถึงอคตินำไปใช้กับ
พื้นผิวทั้งในแง่ของขนาดและโหมดที่จะมีการ
ส่งมอบ (เช่น RF, DC, ชีพจร DC, ฯลฯ ) ในการศึกษานี้ระบบได้รับการ
ที่โดดเด่นในการระบุเงื่อนไขที่เหมาะสมสำหรับ CRN สะสม
แล้วผลของการเต้นอคติสารตั้งต้นในช่วงกลางเดือนความถี่
(เฮิร์ทซ์ 100-350) ในระหว่างทั้งไอออนแกะสลักและปลดออกจากขั้นตอนที่ได้
รับการตรวจสอบ การศึกษาก่อนหน้านี้ได้แสดงให้เห็นว่านี้จะมีนัยสำคัญ
เพิ่มขึ้นอย่างมีนัยปัจจุบันไอออนวาดพื้นผิวอาจจะเป็นเพราะ
การเริ่มต้นของการปลดปล่อยพลาสม่าที่สอง [4] ในด้านหน้าของพื้นผิว
เมื่อเทียบกับซีให้น้ำหนักและจึงให้การของพยานเพิ่ม
เงื่อนไข [5- 7] การศึกษาก่อนหน้านี้ใช้การให้น้ำหนักชีพจรระหว่าง
การทับถมของ TiO2 และเคลือบดีบุก นี่คือการศึกษาครั้งแรกในที่นี้
เทคนิคที่ได้รับนำไปใช้กับภาพยนตร์ CRN และสร้างเมื่อก่อนหน้านี้
ผลงานตีพิมพ์ [8] ลงในผลกระทบของพลังงานไอออนและเนื้อหาไนโตรเจน