As a first step, decreasing the dut

As a first step, decreasing the duty cycle allows a corresponding increase in power during the on-time. When a power density about two orders of magnitude higher than for conventional sputtering is maintained, a qualitative new process, termed high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) is observed . Here, typical pulse lengths of 10–400 µs are used with pulse frequencies in the range of 50–500 Hz, yield a duty cycle around 0.5–5% at instantaneous power densities larger than 1 kW/cm2 . At these greatly enhanced power densities, ionization of sputtered atoms occurs much more frequently than in conventional magnetron sputtering, thus increasing the fraction of ionized sputter material and reducing the necessary amount of sputter gas . In the extreme case, gasless sputtering, using for instance a pulsed cathodic arc for initiation of the self-sputter mode, is achieved .

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ก้าวแรก ลดภาษีรอบได้เพิ่มขึ้นสอดคล้องกันในอำนาจบนเวลา เมื่อรักษาความหนาแน่นไฟเกี่ยวกับสองอันดับของขนาดสูงกว่าการพ่นแบบธรรมดา กระบวนการใหม่เชิงคุณภาพ เรียกว่า magnetron กระแสพลังงานสูงสังเกตสปัตเตอร์ (HIPIMS) ที่นี่ ความยาวปกติชีพจรของ µs 10-400 ใช้พัลส์ความถี่ในช่วง 50-500 Hz ผลตอบแทนรอบภาษีประมาณ 0.5 – 5% ที่ความหนาแน่นกำลังไฟฟ้ามากกว่า 1 กิโลวัตต์/cm2 ที่ความหนาแน่นเหล่านี้กำลังเพิ่มมากขึ้น ionization ของอะตอม sputtered เกิดขึ้นมากมากกว่าบ่อยใน magnetron ธรรมดาพ่น ดังนั้นเศษวัสดุ ionized sputter เพิ่ม และลดจำนวน sputter ก๊าซจำเป็น ในกรณีมาก gasless พ่น ใช้การอาร์ค cathodic พัลตัวอย่างสำหรับการเริ่มต้นของโหมด sputter ตนเอง ที่ทำ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เป็นขั้นตอนแรกลดลงรอบหน้าที่จะช่วยให้เพิ่มขึ้นสอดคล้องกันในอำนาจในช่วงเวลา เมื่อความหนาแน่นพลังงานประมาณสองคำสั่งของขนาดสูงกว่าสปัตเตอร์ทั่วไปจะยังคงกระบวนการใหม่คุณภาพสูงที่เรียกว่าแมกแรงกระตุ้นไฟฟ้าพ่น (HIPIMS) เป็นที่สังเกต ที่นี่ความยาวชีพจรปกติของ 10-400 μsจะใช้กับความถี่พัลส์ในช่วง 50-500 Hz, ผลผลิตรอบหน้าที่รอบ 0.5-5% ที่ความหนาแน่นพลังงานทันทีมีขนาดใหญ่กว่า 1 kW/cm2 ที่ความหนาแน่นพลังงานเหล่านี้เพิ่มขึ้นอย่างมากไอออนไนซ์ของอะตอม sputtered เกิดขึ้นมากขึ้นบ่อยกว่าในสปัตเตอร์แมกทั่วไปซึ่งจะเป็นการเพิ่มส่วนของวัสดุที่พ่นไอออนและลดจำนวนเงินที่จำเป็นของก๊าซพ่น ในกรณีที่รุนแรง, GASLESS สปัตเตอร์โดยใช้ตัวอย่างเช่นโค้ง cathodic ชีพจรสำหรับการเริ่มต้นของโหมดพ่นจะประสบความสำเร็จ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เป็นขั้นตอนแรก ลดรอบหน้าที่จะช่วยให้พลังงานที่เพิ่มขึ้นในช่วงเวลาที่ เมื่อความหนาแน่นพลังงานเกี่ยวกับคำสั่งของขนาดชิ้นงานที่สูงกว่าปกติรักษาสอง เชิงคุณภาพกระบวนการใหม่ termed อำนาจสูงแมกนีตรอนสปัตเตอริง ( แรงกระตุ้น hipims ) เป็นที่สังเกต ที่นี่ปกติชีพจรยาว 10 – 400 µ S ใช้กับชีพจรความถี่ในช่วง 50 - 500 Hz ทำให้วัฏจักรหน้าที่ประมาณ 0.5 – 5% ทันที พลังที่มีขนาดใหญ่กว่า 1 กิโลวัตต์ / cm2 ที่เหล่านี้มากเพิ่มความหนาแน่นของพลังงานไอออไนเซชัน , sputtered อะตอมเกิดขึ้นมากขึ้นบ่อยกว่าปกติ แมกนีตรอนสปัตเตอริงใน ,ดังนั้น การเพิ่มสัดส่วนของประจุละล่ำละลักวัสดุและลดปริมาณมิดหมีเป็นก๊าซ ในกรณีที่รุนแรง gasless สปัตเตอริงโดยใช้ตัวอย่างการกัดกร่อน Arc สำหรับการริเริ่มของตนเองมิดหมี โหมดได้