For preventing particle growth and

For preventing particle growth and glass slide melting due to necessary high temperatures for heating the metal oxides in a reduction atmosphere to get metallic materials, a wet chemical method was applied to reduce the SiO2/CuO precursor to obtain the SiO2/Cu, where the coated particles on the slide surface keep their initial size and shape.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สำหรับป้องกันการเจริญเติบโตของอนุภาคและภาพนิ่งแก้วละลายเนื่องจากอุณหภูมิสูงจำเป็นสำหรับความร้อนออกไซด์โลหะในบรรยากาศลดลงจะได้รับวัสดุโลหะ วิธีเคมีเปียกใช้ลดสารตั้งต้นของ SiO2/CuO รับการ SiO2/Cu อนุภาคเคลือบบนพื้นผิวของภาพนิ่งที่เก็บเริ่มต้นขนาดและรูปร่างของพวกเขา

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สำหรับการป้องกันการเจริญเติบโตของอนุภาคและละลายสไลด์แก้วเนื่องจากอุณหภูมิสูงที่จำเป็นเพื่อให้ความร้อนโลหะออกไซด์ในบรรยากาศลดลงเพื่อให้ได้วัสดุโลหะ, วิธีการทางเคมีเปียกถูกนำมาใช้เพื่อลดสารตั้งต้น SiO2 / ออกไซด์ที่จะได้รับ SiO2 / ลูกบาศ์กที่เคลือบ อนุภาคบนพื้นผิวสไลด์ให้ขนาดเริ่มต้นและรูปร่างของพวกเขา

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เพื่อป้องกันการเติบโตของอนุภาคและกระจกสไลด์เนื่องจากอุณหภูมิสูงที่จำเป็นสำหรับการลดความร้อนของโลหะออกไซด์ในบรรยากาศการรับวัสดุโลหะละลาย วิธีเคมีเปียกถูกนำมาใช้เพื่อลด SiO2 / 2 ( สารตั้งต้นเพื่อให้ได้อนุภาคซิลิกอนไดออกไซด์ / ทองแดงที่เคลือบบนพื้นผิวเลื่อนเก็บขนาดเริ่มต้นของพวกเขาและรูปร่าง