SiO2 nanoparticles were firstly pre

SiO2 nanoparticles were firstly prepared following the well known modified St ¨ober method [25].The core–shell mesoporous
silica was prepared according to the previous report with some modifications [26]. 0.5 g SiO2 was well dispersed in the mixture solution of 0.15 g cetyltrimethylammonium bromide (CTAB), 40 mL deioned water, 0.5 g concentrated ammonia aqueous solu-tion (28wt%), and 30 mL ethanol. After the solution was stirred for 0.5 h, 0.40 g TEOS was added dropwise to the solution with vigorous stirring. After reaction for 6 h, the product was collected by centrifugation and washed several times with ethanol and water. The above coating process was repeated twice. The structure-directing agent (CTAB) was removed by acid/solvent extraction, using a solution of 1M HCl in ethanol. This mixture was refluxed for 72 h, then filtered and washed with EtOH to remove the residual HCl.The product was dried at 60 1 C for 12 h in vacuo to obtain the synthesized core–shell mesoporous silica.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เก็บกัก SiO2 ได้ประการแรกเตรียมต่อวิธีการรู้จักแก้ไขเซนต์ ¨ober [25]ตัวหลักเชลล์
ซิลิกาที่เตรียมรายงานก่อนหน้านี้มีการปรับเปลี่ยนบางอย่าง [26] 0.5 g SiO2 ดีกระจายในโซลูชันส่วนผสมของ 0.15 g cetyltrimethylammonium โบรไมด์ (CTAB), 40 mL deioned น้ำ 0.5 g เข้มข้นแอมโมเนียอควี solu-สเตรชัน (28wt %), และเอทานอล 30 mL หลังจากมีกวนโซลูชันสำหรับ 0.5 h, 0.40 g TEOS เพิ่ม dropwise โซลูชันกับกวนคึกคัก หลังจากปฏิกิริยาใน 6 h ผลิตภัณฑ์ถูกรวบรวม โดย centrifugation และล้างหลาย ๆ ครั้ง ด้วยน้ำและเอทานอล กระบวนการเคลือบผิวด้านบนเป็นซ้ำสอง โครงสร้างผู้กำกับแทน (CTAB) ถูกเอาออก โดยการแยกตัวทำละลาย/กรด ใช้โซลูชันของ 1 M HCl ในเอทานอล ส่วนผสมนี้ถูก refluxed สำหรับ 72 h กรอง และหินกับ EtOH เอาผลิตภัณฑ์ HCl.The เหลือที่แห้ง แล้วที่ 1 C 60 สำหรับ h 12 ใน vacuo จะได้รับซิลิก้าตัวหลักเชลล์สังเคราะห์

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อนุภาคนาโน SiO2 ที่เตรียมแรกต่อไปนี้ที่รู้จักกันดีการปรับเปลี่ยนวิธีการ Ober เซนต์ [25] ทั้งนี้แกนเปลือกเมโซพอรัส
ซิลิกาที่ได้รับการจัดทำขึ้นตามรายงานก่อนหน้านี้มีการปรับเปลี่ยนบาง [26] 0.5 กรัม SiO2 ก็แยกย้ายกันไปได้ดีในการแก้ปัญหามีส่วนผสมของ 0.15 กรัม cetyltrimethylammonium โบรไมด์ (CTAB) 40 ​​มล deioned น้ำ 0.5 กรัมความเข้มข้นของแอมโมเนียในน้ำ Solu-การ (28wt%) และเอทานอล 30 มิลลิลิตร หลังจากที่การแก้ปัญหาที่ถูกกวนเวลา 0.5 ชั่วโมง, 0.40 กรัม TEOS ถูกบันทึก dropwise เพื่อแก้ปัญหาที่มีการกวนแข็งแรง หลังจากปฏิกิริยา 6 ชั่วโมงผลิตภัณฑ์ที่ได้รับการเก็บรวบรวมโดยการปั่นแยกและล้างหลายครั้งด้วยเอทานอลและน้ำ กระบวนการเคลือบดังกล่าวข้างต้นได้รับการซ้ำกันสองครั้ง ตัวแทนโครงสร้างการกำกับ (CTAB) ถูกลบออกโดยกรด / การสกัดด้วยตัวทำละลายโดยใช้วิธีการแก้ปัญหาของ 1M HCl ในเอทานอล ส่วนผสมนี้ถูก refluxed เป็นเวลา 72 ชั่วโมงแล้วกรองและล้างด้วยเอทานอลที่จะเอาสินค้า HCl.The ที่เหลือได้รับการอบแห้งที่อุณหภูมิ 60 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 1 ชั่วโมง 12 ในสุญญากาศที่จะได้รับหลักของเปลือกซิลิกาเมโซพอรัสสังเคราะห์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

SiO2 นาโน 5 . เตรียมต่อไปนี้รู้จักกันดีแก้ไข [ 25 ] วิธีตั้งโอเบอร์เซนต์ แกนและเปลือกซิลิกาเมโซ
เตรียมตามรายงานก่อนหน้านี้ มีการปรับเปลี่ยนบาง [ 26 ] 0.5 กรัม SiO2 ก็กระจายในส่วนผสมสารละลาย 0.15 กรัม cetyltrimethylammonium โบรไมด์ ( ctab ) , 40 มิลลิลิตรต่อน้ำ deioned 0.5 กรัมสารละลายแอมโมเนียเข้มข้น solu tion ( 28wt % )และ 30 มิลลิลิตรเอทานอล หลังจากที่โซลูชั่นถูกกวน 0.5 H , 0.40 กรัมเอท ได้เพิ่ม dropwise เพื่อแก้ปัญหากับคึกคัก ตื่นเต้น หลังจากปฏิกิริยา 6 H , ผลิตภัณฑ์เพื่อปั่นและล้างหลายครั้งด้วยเอทานอลและน้ำ กระบวนการเคลือบด้านบน ทำซ้ำ 2 ครั้ง โครงสร้างการแทน ( ctab ) ถูกลบออกโดยการสกัดกรด / ตัวทำละลายการใช้โซลูชั่นของ 1M HCl ในเอทานอล ส่วนผสมนี้คือ refluxed นาน 72 ชั่วโมง แล้วกรอง และ ล้างด้วยแอลกอฮอล์ เพื่อเอา HCl ที่เหลือ ผลิตภัณฑ์อบแห้งที่อุณหภูมิ 60 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 12 ชั่วโมงใน 1 vacuo เพื่อให้ได้หลัก–เชลล์สังเคราะห์เมโซพอรัสซิลิกา