TEM thin films were cut from the mi

TEM thin films were cut from the middle part of the
transverse cross-section of the ECA pressed rods and prepared
using a twin jet technique in a solution of perchloric
acid (5%) and methanol (95%) at −50 ◦C and 25V for 60 s.
The electron microscope used was a Philips CM200 operating
at 200 keV. The microstructural parameters, such as the
lamellar spacing and the cell size were measured from the
bright field images.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ฟิล์มบางยการถูกตัดจากส่วนกลางของการระหว่างส่วน transverse ของ ECA การกดก้าน และเตรียมโดยใช้เทคนิคคู่เจ็ทในโซลูชันของ perchloric(5%) กรดและเมทานอล (95%) ที่ −50 ◦C และ 25V 60 sCM200 ฟิลิปส์เป็นกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนที่ใช้ปฏิบัติงาน200 keV พารามิเตอร์ microstructural เช่นการlamellar ระยะห่างและขนาดของเซลล์ได้โดยวัดจากการภาพสดใสฟิลด์

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ฟิล์มบาง TEM ถูกตัดออกจากส่วนตรงกลางของ
ขวางข้ามส่วนของ ECA กดแท่งและจัดทำขึ้น
โดยใช้เทคนิคเจ็ทคู่ในการแก้ปัญหาของ perchloric
กรด (5%) และเมทานอล (95%) ที่ 50 ◦Cและ 25V สำหรับ 60 S
กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนที่ใช้เป็นฟิลิปส์ CM200 การดำเนินงาน
ที่ 200 เคฟ พารามิเตอร์จุลภาคเช่น
ระยะห่าง lamellar และขนาดเซลล์ถูกวัดจาก
ภาพด้านที่สดใส

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ฟิล์มบางแบบที่ถูกตัดจากส่วนกลางของ
ตัดตามขวางของ ECA อัดแท่งและเตรียม
ใช้เทคนิคเจ็ทคู่ในสารละลายของกรด perchloric
( 5% ) และเมทานอล ( 95% ) − 50 ◦ C และ 25v 60 S .
กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนที่ใช้เป็นระบบปฏิบัติการ cm200 ฟิลิปส์
ที่ 200 เคฟ ตัวแปรโครงสร้างจุลภาค เช่น
ระยะปลูกและปรับปรุงเซลล์ขนาดวัดจาก
สดใส ด้านภาพ