• 3Si(NH)2 → Si3N4+2NH3 ↑• To minim

• 3Si(NH)2 → Si3N4+2NH3 ↑
• To minimize contamination with C, O and
various metallic impurities.
• การผลตดวย method หรอ process ทตางกน ยอมทาให
ได

product ทแตกตางกนดวย เชน shape, size of
particles, impurities and phases

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

• 3Si (NH) 2 → Si3N4 + 2NH3 ↑
•เพื่อลดการปนเปื้อนด้วย C, O และ
สิ่งสกปรกที่เป็นโลหะต่างๆ.
•การผลตดวยวิธีหรอกระบวนการทตางกหนังสือนยอมทาให
ไดผลิตภัณฑ์ทแตกตางกนดว ยเชนรูปร่างขนาดของอนุภาคสิ่งสกปรกและขั้นตอน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

บริการ 3si ( NH ) 2 → keyboard - key - name ดิฟ + 2nh3 ↑- เพื่อลดการปนเปื้อนของ C , O และสิ่งสกปรกโลหะต่างๆ- วิธีการผลตดวยหรอกระบวนการทตางกนยอมทาใหไดผลิตภัณฑ์ทแตกตางกนดวยเชนรูปร่าง ขนาดของอนุภาคสิ่งสกปรกและระยะ