Titanium disilicide (TiSi2) is an i

Titanium disilicide (TiSi2) is an inorganic chemical compound.

Titanium silicide is used in the semiconductor industry. It is typically grown by means of salicide technology over silicon and polysilicon lines to reduce the sheet resistance of local transistors connections. In the microelectronic industry it is typically used in the C54 phase.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

disilicide ไทเทเนียม (tisi2) เป็นสารเคมีนินทรีย์.

ซิลิไซด์ไททาเนียมที่ใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ เป็นผู้ใหญ่มักจะโดยวิธีการของเทคโนโลยี salicide ผ่านสายซิลิคอนและโพลีซิลิคอนเพื่อลดความต้านทานแผ่นของการเชื่อมต่อทรานซิสเตอร์ท้องถิ่น ในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์มันมักจะใช้ในช่วง C54

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Disilicide ไทเทเนียม (TiSi2) ได้เป็นอนินทรีย์เคมีสารประกอบ

silicide ไทเทเนียมใช้ในอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ มันเป็นโดยทั่วไปปลูกโดยใช้เทคโนโลยี salicide ผ่านซิลิคอนและ polysilicon บรรทัดเพื่อลดการต้านทานแผ่นเชื่อมต่อท้องถิ่น transistors ในอุตสาหกรรม microelectronic โดยปกติในระยะ C54 การ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ไทเทเนียม disilicide (สมอ. 2 )เป็นสารประกอบเลเยอร์สังเคราะห์ที่. silicide

ไทเทเนียมมีการใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ที่ โรงแรมคือปลูกโดยใช้เทคโนโลยี salicide ผ่านสาย polysilicon และซิลิกอนเพื่อลดการต่อต้านของการเชื่อมต่อที่ประกอบด้วยทรานซิสเตอร์ในท้องถิ่นโดยทั่วไปแล้ว ในอุตสาหกรรม microelectronic ที่มีการใช้ใน:เฟส, C 54 ที่โดยทั่วไปแล้ว