The ZnO sol-gel spin-coating method

The ZnO sol-gel spin-coating method is a combination of two techniques applied to produce thin nanostructured ZnO films: The sol-gel technique consists of the preparation, under defined conditions, of a ZnO solution from the mixture of a ZnO precursor [Zn(CH3COO)2·2H2O: zinc acetate dehydrate] and a solvent (2-methoxyethanol) with the addition of a stabilizing substance (ethanolamine). The clear transparent colloidal solution thus obtained,

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

วิธีการหมุนเคลือบลเจ ZnO เป็นการรวมกันของเทคนิคที่สองใช้ในการผลิตฟิล์มบาง nanostructured ZnO: โซลเจลเทคนิคประกอบด้วยการเตรียม ภายใต้เงื่อนไขที่กำหนดไว้ ของ ZnO จากส่วนผสมของสารตั้งต้นของ ZnO [Zn (CH3COO) 2·2H2O: สังกะสี acetate คาย] และตัวทำละลาย (2 methoxyethanol) กับการเพิ่มของสารฟเฟกต์ (ethanolamine) จึง ได้รับ โซลูชัน colloidal ชัดเจนโปร่งใส

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ZnO โซลเจลวิธีการสปินเคลือบคือการรวมกันของทั้งสองเทคนิคที่ใช้ในการผลิตภาพยนตร์อิเล็กทรอนิคส์ ZnO บาง: เทคนิคโซลเจลประกอบด้วยการเตรียมการภายใต้เงื่อนไขที่กำหนดไว้ของการแก้ปัญหาซิงค์ออกไซด์จากส่วนผสมของสารตั้งต้นซิงค์ออกไซด์ [Zn (CH3COO) 2 · 2H2O: สังกะสี acetate Dehydrate] และตัวทำละลาย (2 methoxyethanol) ด้วยนอกเหนือจากการรักษาเสถียรภาพสาร (ethanolamine) เดอะ ชัดเจนการแก้ปัญหาคอลลอยด์โปร่งใสได้ดังนั้น