crystallite size of ZnO particles w

crystallite size of ZnO particles was determined by Sherrer's equation
(where D = 0.89λ/β cosθ where D is the crystallite size (nm),
λ is the wavelength of incident X-ray (nm), β is the full width at
half maximum, and θ is the diffraction angle). The obtained particle
size was 13 nm for pure ZnO. There was a small shift to lower angle
width and change in the line width revealing that silica coating was
successfully conducted (Fig. 3b–h). This leads in slight change of
the particle size of the coated zinc oxide. The zinc oxide free silica
(Fig. 3a & i) showed no XRD peaks, this may confirm that complete
removal of zinc oxide nanoparticles form silica coated zinc oxide microspheres,
when treated with hydrochloric acid.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ขนาดผลึกของ ZnO อนุภาคถูกกำหนด โดยสมการของ Sherrer(ที่ D = 0.89λ / cosθ βที่ D เป็นการผลึกขนาด (nm),Λเป็นความยาวคลื่นของเหตุการณ์ X-ray (nm) βคือ ความกว้างเต็มที่ครึ่งสูงสุด และค่าθคือ มุมกระจาย) อนุภาคได้รับขนาดคือ 13 nm สำหรับ ZnO บริสุทธิ์ มีการเปลี่ยนเล็กไปมุมล่างความกว้างและเปลี่ยนแปลงความกว้างบรรทัดที่เผยให้เห็นว่า เคลือบซิลิกาประสบความสำเร็จ (รูป 3b – h) นี้นำไปสู่การเปลี่ยนแปลงเล็กน้อยของขนาดอนุภาคของสังกะสีออกไซด์เคลือบ ซิลิก้าฟรีสังกะสีออกไซด์(รูป 3a และฉัน) แสดงให้เห็นยอดไม่ XRD นี้อาจยืนยันที่สมบูรณ์กำจัดซิลิก้าฟอร์มเก็บกักสังกะสีออกไซด์เคลือบสังกะสีออกไซด์ microspheresเมื่อรักษา ด้วยกรดไฮโดรคลอริก

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ขนาดผลึกของอนุภาคซิงค์ออกไซด์ถูกกำหนดโดยสม Sherrer ของ
(ที่ D = 0.89λ / βcosθที่ D คือขนาดผลึก (NM)
λคือความยาวคลื่นของเหตุการณ์ที่เกิดขึ้น X-ray (นาโนเมตร) ที่βคือเต็มความกว้างที่
ครึ่งสูงสุด และθคือมุมการเลี้ยวเบน) ได้รับอนุภาค
ขนาด 13 นาโนเมตรสำหรับการซิงค์ออกไซด์บริสุทธิ์ มีการเปลี่ยนแปลงเล็ก ๆ มุมล่าง
กว้างและการเปลี่ยนแปลงในสายความกว้างเผยให้เห็นการเคลือบซิลิกาที่ได้รับการ
ดำเนินการประสบความสำเร็จ (รูป. 3B-H) นี้นำไปสู่การเปลี่ยนแปลงเล็กน้อยของ
ขนาดอนุภาคของสังกะสีออกไซด์เคลือบ สังกะสีออกไซด์ซิลิกาฟรี
(รูป. 3A & I) พบว่าไม่มียอด XRD นี้อาจยืนยันได้ว่าสมบูรณ์
กำจัดอนุภาคนาโนของสังกะสีออกไซด์ในรูปแบบเคลือบสังกะสีซิลิกา microspheres ออกไซด์
เมื่อได้รับการรักษาด้วยกรดไฮโดรคลอริก

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ขนาดผลึกของอนุภาคสังกะสีออกไซด์ถูกกำหนดโดยสมการเชเรอร์ของ( ที่ D = 0.89 λ / บีตาเพราะθที่ D ขนาดผลึก ( nm )λคือความยาวคลื่นของรังสีเอ็กซ์ที่เกิดขึ้น ( nm ) บีตาคือความกว้างเต็มที่สูงสุดครึ่ง และθเป็นเลนส์มุม ) การวิเคราะห์อนุภาคขนาด 13 nm สำหรับบริสุทธิ์เช่นกัน มีการเปลี่ยนแปลงขนาดเล็กเพื่อลดมุมความกว้างและการเปลี่ยนแปลงความกว้างของเส้น สี ซิลิก้า ก็เปิดเผยว่าเรียบร้อยแล้วทดลอง ( รูปที่ 3B ( H ) นี้นำไปสู่การเปลี่ยนแปลงเล็กน้อยของขนาดอนุภาคที่เคลือบสังกะสีออกไซด์ สังกะสีออกไซด์ซิลิกาฟรี( รูปที่ 3A & ผม ) ไม่พบยอด XRD , นี้อาจจะยืนยันว่าเสร็จสมบูรณ์การกำจัดสังกะสีออกไซด์ สังกะสีออกไซด์ที่เคลือบอนุภาคนาโนซิลิกาและรูปแบบ ,เมื่อรักษาด้วยกรดไฮโดรคลอริค .