X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) measurement was performed to determine detail compositions and the nature of the functional groups in the as-synthesized GOs. Fig. S2† shows the wide-scan survey spectra for GO-1, GO-2 and GO-3 on silicon wafer. C KLL, O KLL and Si LMM Auger peaks and XPS spectra peaks of C, O and Si were recorded for all GO samples. The widescan XPS analysis reveals that other than C and O, no other elemental contaminants were present in the graphene oxide materials. It was observed that all GO C1s spectra, as shown in Fig. 5a–c, contain four components corresponding to sp2- hybridized (C]C), C–O, C]O and –COOH functional groups. The sp2-hybridized (C]C) carbon peak appeared near 284.8 eV with a well-known asymmetric line shape in GO-1 as displayed in Fig. 5a. Additionally, the other peaks with significant intensities at 286.7 and 288.2 are related to oxidation developed C–O and C]O (aromatic) functional groups. The C–OH (phenolic) and C–O–C (epoxy) functional groups on the basal plane are associated with the C–O component, assigned at 286.7–286.9 eV. A distinct shoulder at 289.1 eV is assigned to the –COOH groups. All the above-mentioned assignment of peak energies are in agreement with the literature values.32 The correlation between the relative peak intensities of the three components (normalized with sp2), as illustrated in Fig. 5d, provides better understanding of the differences in the synthesis process of GO. The inadequate addition of H3PO4 in the preparation of GO-2 could not protect the GO basal plane from over-oxidation as evidenced from the reduced C–O (component 1) intensity, while in GO-3 increasing amounts of H3PO4 improved the protection of the GO basal plane and increased the C–O (component 1) intensity significantly. On the other hand, the C]O and –COOH functional groups associated with components 3 and 4, respectively, were little lower in GO-3 as compared with GO-2.
วัดเอกซเรย์ photoelectron ก (XPS) ที่ดำเนินการเพื่อกำหนดรายละเอียดองค์ประกอบการและลักษณะของกลุ่ม functional ใน GOs สังเคราะห์เป็น ฟิก S2† แสดงแรมสเป็คตราสำรวจการสแกนทั่วไป-1, 2 ไปและไปที่ 3 บนแผ่นเวเฟอร์ซิลิกอนที่ พีคส์ C KLL, O KLL และศรี LMM Auger และระดับ C, O และศรีแรมสเป็คตรา XPS ถูกบันทึกในตัวอย่างไปทั้งหมด วิเคราะห์ XPS widescan เผยว่า C และ O สารปนเปื้อนไม่ธาตุอื่น ๆ มีอยู่ในวัสดุ graphene ออกไซด์ จะถูกตรวจสอบว่า ทั้งหมด C1s ไปแรมสเป็คตรา มากของ 5a Fig. – c ประกอบด้วยสี่องค์ประกอบที่สอดคล้องกับ sp2-เป็น (C] C), C-O, C] O และ -COOH functional กลุ่ม พีคคาร์บอน (C C]) เป็น sp2 ปรากฏใกล้ 284.8 eV รูปรู้จัก asymmetric บรรทัดใน 1 ไปแสดงใน Fig. ของ 5a นอกจากนี้ สัมพันธ์แห่งอื่น ๆ ด้วยการปลดปล่อยก๊าซสำคัญที่ 286.7 288.2 ออกซิเดชันพัฒนา C – O และ C] กลุ่ม functional O (หอม) C-OH (ฟีนอ) และกลุ่ม functional C – O – C (อีพ็อกซี่) บนเครื่องบินโรคเกี่ยวข้องกับคอมโพเนนต์ C – O กำหนดที่ 286.7 – 286.9 eV ไหล่แตกต่างที่ 289.1 eV ถูกกำหนดให้กับกลุ่ม – COOH การกำหนดพลังงานสูงสุดดังกล่าวจะยังคง values.32 วรรณกรรม ความสัมพันธ์ระหว่างการปลดปล่อยก๊าซสูงสุดสัมพัทธ์ในสามส่วนประกอบ (ตามปกติกับ sp2), เป็นภาพประกอบใน Fig. 5 มีความแตกต่างในกระบวนการสังเคราะห์ไป นี้ไม่เพียงพอของ H3PO4 ในเตรียมไป 2 สามารถป้องกันเครื่องบินโรคไปจากออกซิเดชันที่มากเกินเป็นเป็นหลักฐานจาก C – O (ส่วนที่ 1) ลดความรุนแรง ในขณะที่ใน 3 ไป เพิ่มจำนวนของ H3PO4 ขึ้นของเครื่องบินไปโรค และเพิ่มความเข้มของ C-O (1 ส่วน) อย่างมีนัยสำคัญ ในทางกลับกัน C] O – COOH functional กลุ่มและเชื่อมโยงกับส่วนประกอบ 3 และ 4 ตามลำดับ ได้ต่ำกว่าเล็กน้อยใน 3 ไปตกไป 2
การแปล กรุณารอสักครู่..
