In order to observe the dispersion

In order to observe the dispersion of CB in conductive layers, the
specimens were quenched in liquid nitrogen and cryogenically
ruptured to obtain sections along the extrusion direction. The
freshly broken surfaces were sputter coated with Au before scanning
electron microscope (SEM) observation and then observed in
a JEOL JSM-5900LV SEM. The polar light microscope (PLM) observation
was performed using an Olympus BX51 polarizing microscope
with an attached camera, and the sample thickness was
approximately 20 mm.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การสังเกตการกระจายตัวของ CB ในชั้นนำ การชิ้นงานถูกดับ ในไนโตรเจนเหลว และ cryogenicallyขนาดรับส่วนตามทิศทางการรีด การพื้นผิวเสียสดถูก sputter เคลือบ ด้วย Au ก่อนการสแกนกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน (SEM) สังเกต และตรวจสอบแล้ว ในการเชม JEOL JSM-5900LV การสังเกตขั้วกล้องจุลทรรศน์แสง (PLM)ดำเนินการโดยใช้กล้องจุลทรรศน์แบบ polarizing Olympus BX51 การมีกล้องแนบ และตัวอย่าง ความหนาคือประมาณ 20 มม.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เพื่อสังเกตการกระจายตัวของ CB ในชั้นนำไฟฟ้าที่
ตัวอย่างถูกดับในไนโตรเจนเหลวและ cryogenically
ฉีกขาดที่จะได้รับส่วนตามทิศทางการอัดรีด
พื้นผิวเสียสดเคลือบพ่นด้วย Au ก่อนสแกน
กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน (SEM) สังเกตแล้วพบว่าใน
JEOL JSM-5900LV SEM แสงกล้องจุลทรรศน์ขั้วโลก (PLM) สังเกต
ได้ดำเนินการโดยใช้กล้องจุลทรรศน์ polarizing โอลิมปั BX51
กับกล้องที่แนบมาและความหนาตัวอย่างเป็น
ประมาณ 20 มิลลิเมตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เพื่อสังเกตการกระจายตัวของ CB ในกระแสไฟฟ้าชั้น ,ทำการดับในไนโตรเจนเหลวและ cryogenicallyแตกเพื่อให้ได้ส่วนตามแบบทิศทาง ที่พื้นผิวที่ถูกเคลือบด้วยสดแตกปะทุ ก่อนการสแกน หรือกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน ( SEM ) พบว่าในการสังเกตแล้วเป็นจอล jsm-5900lv SEM กล้องจุลทรรศน์แสงขั้วโลก ( PLM ) การสังเกตการใช้ Olympus bx51 ละเอียดกับกล้องที่แนบมาและตัวอย่างความหนาประมาณ 20 มิลลิเมตร