. However,please note that the larg

. However,
please note that the larger sputtered area here does not imply that
a high sputtering rate will be obtained. The surface of sputtered
area of both cases was very smooth compared to its edge where
there are redeposited Si particles and dome-like structures as
noticed in Fig. 3(a) and (c).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

. อย่างไรก็ตามโปรดทราบว่า ใหญ่ sputtered พื้นที่นี่ไม่นัยว่าจะได้รับอัตราสูง sputtering พื้นผิวของ sputteredพื้นที่ของทั้งสองกรณีถูกมากเมื่อเทียบกับขอบของที่มีอนุภาคซี redeposited และโครงสร้างเหมือนโดมเป็นสังเกตใน Fig. 3(a) และ (c)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

. อย่างไรก็ตาม
โปรดทราบว่าพื้นที่ sputtered ขนาดใหญ่ที่นี่ไม่ได้หมายความว่า
อัตราการสปัตเตอร์สูงจะได้รับ พื้นผิวของ sputtered
พื้นที่ของทั้งสองกรณีถูกเมื่อเทียบเรียบมากไปที่ขอบของมันที่
มีอนุภาค redeposited ศรีและโครงสร้างโดมเหมือน
สังเกตเห็นในรูป 3 (ก) และ (ค)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

. อย่างไรก็ตาม
โปรดทราบว่าขนาดใหญ่ sputtered พื้นที่ตรงนี้ไม่ได้หมายความว่า
สูงส ซึ่งได้รับ พื้นผิวของ sputtered
พื้นที่ของทั้งสองกรณีเป็นอย่างราบรื่นเมื่อเทียบกับขอบที่
มี redeposited ศรีอนุภาคและโดมเหมือนโครงสร้าง
สังเกตุในรูปที่ 3 ( ก ) และ ( ค )