ZnO/Zn film was deposited on soda-l

ZnO/Zn film was deposited on soda-lime glass substrate using a microwave atmospheric plasma jet. Energy dispersive spectroscopy showed that the Zn and O2 has an atomic ratio of 72:28. Zn (101) peak was also observed through X-ray Diffraction analysis. Annealing of the ZnO/Zn film at 400 °C for 1 h leads to the oxidation of Zn forming ZnO film. The photo-catalytic properties of the ZnO/Zn and ZnO films for the degradation of Rhodamine 6G dye were then compared. ZnO/Zn film has higher degradation rate of 1.37%/min while ZnO film has 1.23%/min.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ฝากฟิล์ม ZnO/สังกะสี บนผิวกระจกมะนาวโซดาที่ใช้พลาสม่าบรรยากาศเจ็ทไมโครเวฟ สเปกโทรสโก dispersive พลังงานแสดงว่า Zn และ O2 ได้มีอัตราส่วนอะตอมของ 72:28 Zn (101) สูงนอกจากนี้ยังพบว่า ผ่านการวิเคราะห์การเลี้ยวเบนรังสีเอ็กซ์ หลอมของฟิล์ม ZnO/Zn ที่ 400 ° C สำหรับ 1 h ที่นำไปสู่การเกิดออกซิเดชันของ Zn ในการขึ้นรูปฟิล์ม ZnO คุณสมบัติของตัวเร่งปฏิกิริยาภาพฟิล์ม ZnO และ ZnO/Zn ของการย่อยสลายของ Rhodamine 6 กรัม ย้อมแล้วมาเปรียบเทียบกัน ฟิล์ม ZnO/Zn มีอัตราการลดของ 1.37%/min ในขณะฟิล์ม ZnO 1.23%/min

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ฟิล์มซิงค์ออกไซด์ / Zn ถูกวางบนพื้นผิวแก้วโซดาไลม์โดยใช้ไมโครเวฟเจ็ทพลาสม่าในชั้นบรรยากาศ พลังงานสเปกโทรสโกกระจายพบว่าสังกะสีและ O2 มีอัตราส่วนของอะตอม 72:28 Zn (101) สูงสุดยังเห็นได้ผ่านการวิเคราะห์การเลี้ยวเบนรังสีเอกซ์ การหลอมของภาพยนตร์ ZnO / Zn ที่ 400 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 1 ชั่วโมงจะนำไปสู่การเกิดออกซิเดชันของธาตุสังกะสีขึ้นรูปฟิล์มซิงค์ออกไซด์ คุณสมบัติภาพการเร่งปฏิกิริยาของซิงค์ออกไซด์ / สังกะสีและ ZnO ภาพยนตร์สำหรับการย่อยสลายของโรดามีน 6G สีถูกนำมาเปรียบเทียบแล้ว ฟิล์มซิงค์ออกไซด์ / Zn มีอัตราการย่อยสลายที่สูงขึ้น 1.37% / นาทีขณะที่ฟิล์มซิงค์ออกไซด์มี 1.23% / นาที