We annealed the films at different

We annealed the films at different temperatures (100, 150 and 200 °C) under N2 ambient for 8 h, and characterized the crystallinity and morphology of the Bi–Te films. Microstructure characterization using X-ray diffraction and scanning electron microscopy disclosed that the post-annealing treatment entailed a drastic microstructural evolution by inducing the development of a strong texture of grains with their c-axis oriented normal to the substrate.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เรา annealed ฟิล์มที่อุณหภูมิแตกต่างกัน (100, 150 และ 200 ° C) ภายใต้สภาวะสำหรับ 8 h, N2 และลักษณะ crystallinity และสัณฐานวิทยาของฟิล์ม Bi – ติ จำแนกต่อโครงสร้างจุลภาคโดยใช้การเลี้ยวเบนเอกซเรย์ และสแกน microscopy อิเล็กตรอนเปิดเผยว่า การรักษาหลังหลอม entailed วิวัฒนาการ microstructural ความรุนแรง โดย inducing พัฒนาของพื้นผิวที่แข็งแกร่งของธัญพืชด้วยของแกน c วางกับพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เราภาพยนตร์อบที่อุณหภูมิที่แตกต่างกัน (100, 150 และ 200 ° C) ภายใต้ N2 โดยรอบเป็นเวลา 8 ชั่วโมงและมีลักษณะเป็นผลึกและสัณฐานวิทยาของภาพยนตร์ Bi-Te ลักษณะจุลภาคใช้ X-ray diffraction และกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราดเปิดเผยว่าการรักษาหลังการหลอมยกวิวัฒนาการจุลภาครุนแรงโดยการกระตุ้นให้เกิดการพัฒนาของพื้นผิวที่แข็งแกร่งของธัญพืชที่มีแกนคของพวกเขาที่มุ่งเน้นปกติกับพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เราอบฟิล์มที่อุณหภูมิแตกต่างกัน ( 100 , 150 และ 200 องศา C ) ภายใต้ 2 ห้องเป็นเวลา 8 ชั่วโมง และศึกษาลักษณะของผลึกและสัณฐานวิทยาของบี–เต้ ภาพยนตร์โครงสร้างจุลภาคสมบัติโดยใช้การเลี้ยวเบนของรังสีเอ็กซ์ และกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด พบว่า การอบ การโพสต์ ( จํานวนมาก วิวัฒนาการโครงสร้างจุลภาคโดยกระตุ้นการพัฒนาแข็งแรงพื้นผิวของธัญพืชกับ c-axis แบบปกติของพื้นผิว .