Table 3Treatment conditions used in

Table 3
Treatment conditions used in the hybrid process
N2 flow (sccm) H2 flow (sccm) Ar flow (sccm) Time (min) Pressure (Torr) Temperature (0
C) Power (W) Current (A) Ton (μs) Toff (μs)
PVD-A2 2.0 xx 20.0 120.0 3.0 × 10−3 320 500 xx xx xx
Plasma nitriding 200 11.0 xx 60.0 3.5 520 330 1.4 70.0 160,0

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ตารางที่ 3
เงื่อนไขการรักษาที่ใช้ในกระบวนการไฮบริดไหล N2 (SCCM) กระแส H2 (SCCM) กระแสเท่น (SCCM) เวลา (นาที) แรงดัน (Torr) อุณหภูมิ (0 C) พลังงาน (W) ปัจจุบัน () ตัน (ไมโครวินาที) Toff (ไมโครวินาที) PVD-A2 2.0 x ยาว x 20.0 120.0 3.0 × 10-3 320 500 XX XX XX พลาสม่าไนไตรด์ 200 11.0 x ยาว x 60,0 3,5 520 330 1,4 70,0 160,0

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ตารางที่ 3 การรักษาเงื่อนไขที่ใช้ในการผสม

2 กระบวนการไหล ( sccm ) H2 ไหล ( sccm ) การไหลของ AR ( sccm ) เวลา ( นาที ) แรงดัน ( ทอร์ ) อุณหภูมิ ( 0
c ) พลังงาน ( W ) ในปัจจุบัน ( ) ตัน ( μคนชั้นสูง ( s ) μ S )
pvd-a2 2.0 X 20.0 120.0 3.0 × 10 − 3 320 500 XX XX XX
พลาสมา nitriding 200 11.0 xx 60.0 520 330 1.4 70.0 160,0 3.5