The pure TCS gas is decomposed to p

The pure TCS gas is decomposed to pure Si on a U-shaped filament according to reaction (6), where the produced HCl is re-used in the initial process step [3]. This chemical vapor deposition (CVD) reaction takes place at 1000-1100°C and the filament is heated with ohmic energy.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ก๊าซบริสุทธิ์ TCS จะแยกซีบริสุทธิ์บนใยเป็นรูปตัวยูตามปฏิกิริยา (6), ซึ่งรายชื่อ HCl ผลิตใหม่ใช้ในขั้นตอนของกระบวนการเริ่มต้น [3] นี้ไอเคมีสะสมเกี่ยวกับ) ปฏิกิริยาเกิดขึ้นที่ 1000-1100° C และใยมีความร้อนกับพลังงานแบบโอห์มมิค

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

TCS ก๊าซบริสุทธิ์ย่อยสลายไปเป็นศรีบริสุทธิ์บนเส้นรูปตัวยูตามปฏิกิริยา (6) ที่ผลิต HCl เป็นอีกครั้งที่ใช้ในขั้นตอนการเริ่มต้นกระบวนการ [3] นี้ไอสารเคมีสะสม (CVD) ปฏิกิริยาเกิดขึ้นที่ 1000-1100 ° C และเส้นใยถูกทำให้ร้อนด้วยพลังงาน ohmic

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ที่เดอะเพียวแก๊สเน่าเพียวศรีในบางอุตสาหกรรมเส้นใยตามปฏิกิริยา ( 6 ) ที่ผลิตกรดไฮโดรคลอริกเป็นใช้ในการเริ่มต้นกระบวนการขั้นตอน [ 3 ] นี้ ( chemical vapor deposition ( CVD ) ปฏิกิริยาเกิดขึ้นใน 1000-1100 ° C และเส้นใยจะอุ่นกับค่าพลังงาน