โดยจะเห็นว่าเมื่อมีการเติมคอปเปอร์ล

โดยจะเห็นว่าเมื่อมีการเติมคอปเปอร์ลงในซิงค์ออกไซด์ด้วยวิธีการต่างๆ ทั้งแบบขั้นตอนเดียวและ 2 ขั้นตอน ไม่ได้ทำให้รูปแบบการเลี้ยวเบนของรังสีเอ็กซ์ของซิงค์ออกไซด์เปลี่ยนแปลงไป อย่ำงไรก็ตำม
33
เมื่อเปรียบเทียบตัวอย่างที่ได้จากการเตรียมโดยขั้นตอนเดียวแต่ร้อยละของคอปเปอร์ที่เติมต่างกัน จากรูป 4.6 ก.) พบพีคที่ตำแหน่ง 35.52 และ 38.98 ซึ่งเป็นพีคของคอปเปอร์(II)ออกไซด์ (CuO) เป็นโครงสร้ำงผลึกแบบแบบเฟสเซนเตอร์ (face centered cubic) นั่นคือการสังเคราะห์โลหะผสมคอปเปอร์/ซิงค์ออกไซด์แบบขั้นตอนเดียวโดยวิธีไฮโดรเทอมัล คอปเปอร์ที่เกิดขึ้นจากการสังเคราะห์จะอยู่ในรูปของคอปเปอร์(II)ออกไซด์ ซึ่งจะพบพีคคอปเปอร์(II)ออกไซด์เมื่อมีร้อยละโดยโมลของคอปเปอร์ต่อซิงค์ออกไซด์ที่สูง แต่ถ้มีร้อยละโดยโมลของคอปเปอร์ต่อซิงค์ออกไซด์ต่ำ จะไม่ปรากฏพีคคอปเปอร์(II)ออกไซด์ ดังแสดงในภาพ 4.6 ค.) มีร้อยละโดยโมลของคอปเปอร์ต่อซิงค์ออกไซด์เท่ากับ 3 จึงไม่ปรากฏพีคคอปเปอร์(II)ออกไซด์ อาจเนื่องมาจากคอปเปอร์มีขนาดเล็กและมีการกระจายตัวสูง เมื่อมีปริมาณน้อยจึงไม่สามารถตรวจวัดได้ จากภาพ 4.6 ข.) พบพีคคอปเปอร์ที่ตำแหน่ง 43.2, 50.1 และ74.0 เป็นระนาบผลึกชนิด (111) (200) (220) ตำมลำดับ ซึ่งตรงกับรูปแบบการเลี้ยวเบนของรังสีเอ็กซ์ของอะตอมคอปเปอร์ที่มีโครงสร้างผลึกแบบแบบเฟสเซนเตอร์ (face centered cubic) นั่นคือการสังเคราะห์โลหะผสมคอปเปอร์/ซิงค์ออกไซด์แบบ 2 ขั้นตอนโดยวิธีสะสมทางเคมี คอปเปอร์ที่เกิดขึ้นจากการสังเคระห์จะอยู่ในรูปของคอปเปอร์(0) และคอปเปอร์(0) สามารถตรวจวัดได้แม้มีร้อยละโดยโมลของคอปเปอร์ต่อซิงค์ออกไซด์ต่ำ เนื่องมาจากคอปเปอร์(0) ที่เกิดขึ้นน่าจะมีขนาดใหญ่จึงสามารถตรวจวัดได้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ทั้งแบบขั้นตอนเดียวและ 2 ขั้นตอน จากรูป 4.6 ก.) พบพีคที่ตำแหน่ง 35.52 และ 38.98 ซึ่งเป็นพีคของคอปเปอร์ (II) ออกไซด์ (ออกไซด์) (ใบหน้าศูนย์กลางลูกบาศก์) จะไม่ปรากฏพีคคอปเปอร์ (II) ออกไซด์ดังแสดงในภาพ 4.6 ค.) 3 จึงไม่ปรากฏพีคคอปเปอร์ (II) ออกไซด์ จากภาพ 4.6 ข.) พบพีคคอปเปอร์ที่ตำแหน่ง 43.2, 50.1 และ 74.0 เป็นระนาบผลึกชนิด (111) (200) (220) ตำมลำดับ (ใบหน้าศูนย์กลางลูกบาศก์) 2 ขั้นตอนโดยวิธีสะสมทางเคมี และคอปเปอร์ (0) เนื่องมาจากคอปเปอร์ (0)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โดยจะเห็นว่าเมื่อมีการเติมคอปเปอร์ลงในซิงค์ออกไซด์ด้วยวิธีการต่างๆทั้งแบบขั้นตอนเดียวและ 2 แนะนำและอำนวยไม่ได้ทำให้รูปแบบการเลี้ยวเบนของรังสีเอ็กซ์ของซิงค์ออกไซด์เปลี่ยนแปลงไปอย่ำงไรก็ตำม

33เมื่อเปรียบเทียบตัวอย่างที่ได้จากการเตรียมโดยขั้นตอนเดียวแต่ร้อยละของคอปเปอร์ที่เติมต่างกันจากรูป 4.6 . . ) พบพีคที่ตำแหน่ง 35.52 และ 3898 ซึ่งเป็นพีคของคอปเปอร์ ( 2 ) ออกไซด์ ( 2 ( ) เป็นโครงสร้ำงผลึกแบบแบบเฟสเซนเตอร์ ( ลูกบาศก์ ) นั่นคือการสังเคราะห์โลหะผสมคอปเปอร์ / ซิงค์ออกไซด์แบบขั้นตอนเดียวโดยวิธีไฮโดรเทอมัลซึ่งจะพบพีคคอปเปอร์ ( 2 ) ออกไซด์เมื่อมีร้อยละโดยโมลของคอปเปอร์ต่อซิงค์ออกไซด์ที่สูงแต่ถ้มีร้อยละโดยโมลของคอปเปอร์ต่อซิงค์ออกไซด์ต่ำจะไม่ปรากฏพีคคอปเปอร์ ( 2 ) ออกไซด์ดังแสดงในภาพ 46 ค . ) มีร้อยละโดยโมลของคอปเปอร์ต่อซิงค์ออกไซด์เท่ากับ 3 จึงไม่ปรากฏพีคคอปเปอร์ ( 2 ) ออกไซด์อาจเนื่องมาจากคอปเปอร์มีขนาดเล็กและมีการกระจายตัวสูงเมื่อมีปริมาณน้อยจึงไม่สามารถตรวจวัดได้จากภาพ 4.6 ข .) พบพีคคอปเปอร์ที่ตำแหน่ง 43.2 50.1 , และ 740 เป็นระนาบผลึกชนิด ( 111 ) ( 200 ) ( 220 ) ตำมลำดับซึ่งตรงกับรูปแบบการเลี้ยวเบนของรังสีเอ็กซ์ของอะตอมคอปเปอร์ที่มีโครงสร้างผลึกแบบแบบเฟสเซนเตอร์ ( ลูกบาศก์ ) นั่นคือการสังเคราะห์โลหะผสมคอปเปอร์ / ซิงค์ออกไซด์แบบ 2คอปเปอร์ที่เกิดขึ้นจากการสังเคระห์จะอยู่ในรูปของคอปเปอร์ ( 0 ) และคอปเปอร์ ( 0 ) สามารถตรวจวัดได้แม้มีร้อยละโดยโมลของคอปเปอร์ต่อซิงค์ออกไซด์ต่ำเนื่องมาจากคอปเปอร์ ( 0 ) ที่เกิดขึ้นน่าจะมีขนาดใหญ่จึงสามารถตรวจวัดได้