In addition, metal ions can also in

In addition, metal ions can also interfere with the measurement
by complexing competitively with DMG or by producing
reduction peaks that overlap with, or even completely suppress,
the Ni peak. A number of metal ions that could
potentially interfere were examined: Pb(II), Hg(II), Cu(II), Fe(II),
Al(III), Cd(II), Ti(IV), Ca(II) and Mn(II) added at a 100-fold mass
concentration excess over Ni(II) did not interfere (the criterion
for interference was a ±10% error in the peak height of Ni).
It is well-known that on electroplated BiFEs, in the presence
of DMG, Co(II) produces a stripping peak at the cathodic side
of the Ni peak which is well separated from the Ni peak [25].
On the sputtered BiFE, as indeed on the electroplated BiFE,
Co(II) produced a stripping peak close to −1.16V. However, as
on the sputtered BiFE the Ni peak was shifted cathodically
(as discussed above), it partially overlapped with the Co peak
and simultaneous determination of the two metals was not
possible. However, it was possible to control the adsorption
process in order to achieve enhanced selective adsorption of
the Ni(II)-DMG complex over the Co(II)-DMG complex. In particular,
it has been found previously, and verified in the present
work, that adsorption of the Co(II)-DMG is enhanced at higher
DMG concentrations and more rigorous mass-transfer conditions
[24,25]. A DMG concentration equal to, or less than,
0.05mmolL−1 and static accumulation resulted in a weak Co
response that enabled the determination of Ni(II) in the presence
of a 10-fold excess of Co(II).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

นอกจากนี้ ประจุโลหะยังอาจรบกวนการประเมินโดย complexing สามารถแข่งขันได้ กับ DMG หรือผลิตลดยอดที่ทับซ้อนกับ หรือ ระงับได้อย่างสมบูรณ์จุดสูงสุด Ni จำนวนประจุของโลหะที่สามารถแทรกแซงอาจถูกตรวจสอบ: Pb(II), Hg(II), Cu(II), Fe(II)Al(III), Cd(II), Ti(IV), Ca(II) และ Mn(II) เพิ่มที่มวล 100-foldความเข้มข้นเกินกว่า Ni(II) ไม่ยุ่ง (เงื่อนไขสำหรับสัญญาณรบกวนนั้นมีข้อผิดพลาด%〜สูงสูงสุดของ Ni)เป็นที่รู้จักว่า ใน electroplated BiFEs ในการของ DMG, Co(II) คมชัดสูงสุด stripping ด้าน cathodicของพีค Ni ที่ดีแยกออกจาก peak Ni [25]ใน BiFE ที่ sputtered เป็นจริงบน electroplated BiFECo(II) ผลิตสูงสุด stripping ใกล้กับ −1.16V อย่างไรก็ตาม เป็นใน sputtered BiFE ค Ni ได้เปลี่ยน cathodically(เป็นการกล่าวถึงข้างต้น), มันบางส่วนซ้อนกันกับพีคจำกัดและไม่มีกำหนดพร้อมของโลหะทั้งสองเป็นไปได้ อย่างไรก็ตาม ก็สามารถควบคุมการดูดซับดูดซับใช้สนับสนุนกระบวนการเพื่อให้บรรลุเชิงซ้อน Ni (II) - DMG ซับซ้อนกว่า Co (II) - DMG โดยเฉพาะมีการพบก่อนหน้านี้ และตรวจสอบในปัจจุบันทำงาน การดูดซับของบริษัท (II) -DMG จะเพิ่มที่สูงขึ้นความเข้มข้นของ DMG และเงื่อนไขการถ่ายโอนมวลอย่างเข้มงวดมากขึ้น[24,25] A DMG ความเข้มข้นเท่ากับ หรือน้อยกว่า0.05mmolL−1 และคงสะสมส่งผลให้บริษัทที่อ่อนแอตอบสนองที่กำหนดของ Ni(II) ในการเปิดใช้งานของเกิน 10-fold ของ Co(II)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

นอกจากนี้ไอออนของโลหะยังสามารถยุ่งเกี่ยวกับการวัดโดย complexing ที่สามารถแข่งขันกับ DMG หรือโดยการผลิตยอดลดลงที่ทับซ้อนกับหรือแม้กระทั่งสมบูรณ์ปราบปรามยอดNi จำนวนของไอออนของโลหะที่อาจอาจรบกวนการตรวจสอบ: ตะกั่ว (II) ปรอท (II), Cu (II), เฟ (II), อัล (III) แคดเมียม (II), Ti (IV), Ca (II ) และแมงกานีส (II) เพิ่มมวล 100 เท่าส่วนที่เกินความเข้มข้นมากกว่าNi (II) ไม่ยุ่ง (เกณฑ์การแทรกแซงเป็น±ข้อผิดพลาด10% ในความสูงที่จุดสูงสุดของ Ni). มันเป็นที่รู้จักกันดีว่าเมื่อวันที่ electroplated BiFEs ในการปรากฏตัวของDMG ร่วม (II) ผลิตสูงสุดลอกที่ด้าน cathodic ของยอด Ni ซึ่งจะแยกออกจากกันอย่างดีจากยอด Ni [25]. ใน sputtered bife เป็นจริงใน electroplated bife, ร่วม ( II) การผลิตสูงสุดลอกใกล้กับ -1.16V แต่เป็นใน sputtered bife ยอด Ni ขยับ cathodically (ตามที่กล่าวข้างต้น) มันซ้อนทับบางส่วนที่มียอดร่วมและความมุ่งมั่นพร้อมกันของโลหะสองก็ไม่ได้เป็นไปได้ แต่มันเป็นไปได้ที่จะควบคุมการดูดซับกระบวนการเพื่อให้บรรลุการปรับปรุงเลือกดูดซับแบตเตอรี่Ni (II) ที่ซับซ้อนมากกว่า -DMG ร่วม (II) -DMG ซับซ้อน โดยเฉพาะอย่างยิ่งจะได้รับพบก่อนหน้านี้และตรวจสอบอยู่ในปัจจุบันทำงานที่ดูดซับร่วม(II) -DMG จะเพิ่มขึ้นที่สูงกว่าความเข้มข้นฮึกเหิมและอื่นๆ เงื่อนไขการถ่ายโอนมวลอย่างเข้มงวด[24,25] ความเข้มข้นฮึกเหิมเท่ากับหรือน้อยกว่า0.05mmolL-1 และการสะสมคงที่ทำให้เกิดความอ่อนแอร่วมการตอบสนองที่เปิดใช้งานการกำหนดNi (ที่สอง) ในการปรากฏตัวของส่วนที่เกิน10 เท่าของ Co (II)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

นอกจากนี้ ไอออนโลหะยังสามารถแทรกแซงกับการวัด
โดยในสามารถแข่งขันได้กับ dmg หรือโดยการผลิต
ลดยอดที่ทับซ้อนกับหรือแม้กระทั่งสมบูรณ์ระงับ
ผมสูงสุด จำนวนของไอออนโลหะที่อาจรบกวนศึกษา
: Pb ( II ) , ปรอท ( II ) , Cu ( II ) , Fe ( II ) ,
ล ( III ) ซีดี ( 2 ) Ti ( IV ) , CA ( II ) และแมงกานีส ( II ) เพิ่มเป็น 100 เท่า มวล
ความเข้มข้นเกินกว่า Ni ( II ) ไม่ยุ่ง ( เกณฑ์
สำหรับการแทรกแซงเป็นข้อผิดพลาดที่± 10% ในช่วงความสูงของชั้น ) .
เป็นที่รู้จักกันดีว่าในการชุบ bifes ในการแสดง
DMG CO ( 2 ) ผลิตปอกสูงสุดที่กันไปข้าง
ของฉันสูงสุดซึ่ง เป็นอย่างดี แยกจากฉันสูงสุด [ 25 ] .
บน sputtered bife , เป็นจริงในการชุบ bife
,CO ( 2 ) ผลิตปอกสูงสุดใกล้− 1.16v อย่างไรก็ตาม ขณะที่
บน sputtered bife ผมสูงสุดขยับ cathodically
( ตามที่กล่าวไว้ข้างต้น ) , บางส่วนทับซ้อนกับ Co สูงสุด
และความมุ่งมั่นพร้อมกันสองโลหะไม่ได้
ที่สุด อย่างไรก็ตาม มันเป็นไปได้ที่จะควบคุมการกระบวนการเพื่อให้บรรลุเพิ่ม

เลือกการดูดซับของผม ( 2 ) dmg ที่ซับซ้อนกว่า Co ( 2 ) dmg ที่ซับซ้อน โดย
พบก่อนหน้านี้และตรวจสอบความถูกต้องในงานปัจจุบัน
ที่ดูดซับ CO ( 2 ) dmg เพิ่มระดับความเข้มข้นและเข้มงวดมากขึ้น
dmg การถ่ายโอนมวลเงื่อนไข
[ 24,25 ] เป็น dmg ความเข้มข้นเท่ากับหรือน้อยกว่า ,
0.05mmoll − 1 และคงสะสมส่งผล
โคอ่อนคำตอบนั่นทำให้ความมุ่งมั่นของ Ni ( II ) ในการแสดงตน
ของ 10 เท่าส่วนเกินของ Co ( 2 )