In order to understand the degradat

In order to understand the degradation pathway and intermediates that are formed during photocatalytic process for phenol decomposition, LC–MS analysis (Fig. 10) is carried out on supernatant obtained after 100 min from reactor. The chromatographic pattern of the colorless supernatant (Fig. 10a) revealed the presence of two compounds at 2.129 and 2.457 retention times while their corresponding masses (m/e) are found to be 146.06 and 370.12, respectively. Such a degradation of phenol can be explained on the basis of Advanced Oxidation Processes (AOPs) promoted by heterogeneous photocatalyst through oxidative mineralization of most of the organic pollutants. This process involves [38]: (a) absorption of efficient photons by ZnO–clay nanocomposite, (b) oxygen adsorption followed by generation of superoxide radicals, (c) generation of [H] atoms through photoelectrons, (d) formation of hydroxyl radicals from transient hydrogen peroxide and (e) oxidation of organic molecule via successive attack of OH• radicals. Two oxidative reagents are usually found to be associated with such photo-degradation process, namely, photo-produced holes h+ “Photo-Kolbe” and the OH• radicals, which are highly reactive and degrading but non-selective agents. Moreover, the reductive process also takes place through photo-generated hydrogen atom from water.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เพื่อให้เข้าใจถึงเส้นทางการย่อยสลายและตัวกลางที่จะเกิดขึ้นในระหว่างกระบวนการปฏิกิริยาการย่อยสลายฟีนอลสำหรับการวิเคราะห์ LC-MS (รูปที่. 10) จะดำเนินการในสารละลายได้รับหลังจาก 100 นาทีจากเครื่องปฏิกรณ์ รูปแบบของโครมาใสไม่มีสี (รูป. 10a) เปิดเผยว่าการปรากฏตัวของสารสองที่ 2.129 และ 2.457 ครั้งการเก็บรักษาในขณะที่มวลชนที่สอดคล้องกัน (m / E) จะพบว่ามี 146.06 และ 370.12 ตามลำดับ เช่นการย่อยสลายของฟีนอลสามารถอธิบายบนพื้นฐานของกระบวนการขั้นสูงออกซิเดชัน (ซึ่ง ได้แก่ ) ส่งเสริมโดย photocatalyst ที่แตกต่างกันผ่านแร่ออกซิเดชันของที่สุดของสารมลพิษอินทรีย์ กระบวนการนี​​้เกี่ยวข้องกับ [38] (ก) การดูดซึมของโฟตอนที่มีประสิทธิภาพโดยนาโนคอมโพสิต ZnO ดิน (ข) การดูดซับออกซิเจนตามด้วยการสร้างอนุมูล superoxide (ค) การสร้าง [H] อะตอมผ่าน photoelectrons, (ง) การก่อตัวของไฮดรอก จากอนุมูลไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ชั่วคราวและ (จ) การเกิดออกซิเดชันของโมเลกุลอินทรีย์ผ่านการโจมตีต่อเนื่องของโอ•อนุมูล สองน้ำยาออกซิเดชันมักจะพบจะเกี่ยวข้องกับกระบวนการย่อยสลายภาพดังกล่าวคือภาพหลุมผลิตเอช + "ภาพโคลบี" และโอ•อนุมูลซึ่งเป็นตัวแทนสูงปฏิกิริยาและการย่อยสลาย แต่ไม่ได้รับเลือก นอกจากนี้ขั้นตอนการลดลงนอกจากนี้ยังเกิดขึ้นผ่านอะตอมไฮโดรเจนภาพที่เกิดจากน้ำ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เพื่อให้เข้าใจสภาพเส้นทางและตัวกลางที่จะเกิดขึ้นในระหว่างกระบวนการ Photocatalytic ฟีนอลและการวิเคราะห์การสลายตัว LC MS ( รูปที่ 10 ) จะดําเนินการในนำที่ได้รับหลังจาก 100 นาทีจากเครื่องปฏิกรณ์ รูปแบบและสี และน่าน ( รูปที่ 10 ) พบว่ามีสารประกอบสองชนิดที่ 2.129 และ 2457 ครั้งในขณะที่ในฝูงที่สอดคล้องกันของพวกเขา ( M / E ) จะพบว่ามี 146.06 และ 370.12 ตามลำดับ เช่นการสลายตัวของฟีนอลที่สามารถอธิบายบนพื้นฐานของกระบวนการออกซิเดชันขั้นสูง ( aops ) โดยใช้ข้อมูล photocatalyst ผ่านการออกซิเดชันของที่สุดของสารมลพิษอินทรีย์ กระบวนการนี้เกี่ยวข้องกับ [ 38 ] :( ก ) การดูดซึมของโฟตอนโดยดินเหนียวนาโนคอมโพสิตที่มี ZnO และ ( ข ) การดูดซับออกซิเจนตามรุ่นของซุปเปอร์อนุมูล ( C ) รุ่นของ [ H ] อะตอมผ่านโฟโต้อิเลคตร ( D ) การเกิดอนุมูลไฮดรอกซิลจากไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ชั่วคราว ( E ) การเกิดออกซิเดชันของโมเลกุลอินทรีย์ผ่านการโจมตีต่อเนื่องของ โอ - อนุมูลอิสระสองออกซิเดชันสารเคมีมักจะพบจะเกี่ยวข้องกับกระบวนการย่อยสลายภาพดังกล่าวคือ ภาพถ่ายที่หลุม H ภาพ " รอบๆ " และโอ - อนุมูลอิสระซึ่งเป็นปฏิกิริยาตอบโต้และน่าอาย แต่ไม่ใช่ตัวแทนที่เลือก นอกจากนี้ กระบวนการซึ่งยังใช้สถานที่ผ่านภาพถ่ายสร้างอะตอมไฮโดรเจนจากน้ำ