Afterwards, the photoresist solutio

Afterwards, the photoresist solution of polymethylmethacrylate (PMMA) was spin-coated on a GaN substrate

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หลังจากนั้น การแก้ปัญหาเพียงของ polymethylmethacrylate (PMMA) ถูกหมุนเคลือบบนพื้นผิวกัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หลังจากนั้นการแก้ปัญหาไวแสงของ polymethylmethacrylate (PMMA) คือการสปินเคลือบบนพื้นผิวกาน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ภายหลัง ระบบโซลูชั่นของพอลิเมทิลเมทาคริเลต ( PMMA ) คือการหมุนเคลือบบนพื้นผิว กาน