During these reactions (6.5), (6.6)

During these reactions (6.5), (6.6) and (6.7) and while surface activity penetration function is working, the chemical actions are further accelerated by the mechanical action of the added fine particles and the frictional exoergic reaction with the processing surface.
From this processing mechanism of GaAs, a slurry with an oxidant to which a small quantity of alkali hydroxide is added is basically effective for the mechanochemical polishing of GaAs crystals. Achieving high-quality surfaces by adding a DN agent with a surface penetration function allows for removal of the reaction products (films, stains) from the surfaces.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในระหว่างนี้ปฏิกิริยา (6.5), (6.6) และ (6.7) และในขณะทำงานฟังก์ชันเจาะผิวกิจกรรม การกระทำสารเคมีจะเร่งเพิ่มเติม โดยการกระทำทางกลของละอองเพิ่มและปฏิกิริยา exoergic frictional ด้วยพื้นผิวการประมวลผลสารละลายกับอนุมูลอิสระจะเพิ่มปริมาณของด่างไฮดรอกไซด์ซึ่งจะไม่มีประสิทธิภาพโดยทั่วไปสำหรับขัด mechanochemical ของ GaAs ผลึกจากกลไกนี้การประมวลผลของ GaAs ให้บรรลุคุณภาพพื้นผิว โดยการเพิ่มตัวแทน DN ด้วยฟังก์ชันเจาะพื้นผิวสำหรับปฏิกิริยาผลิตภัณฑ์ (ฟิล์ม คราบ) จากพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในระหว่างปฏิกิริยาเหล่านี้ (6.5) (6.6) และ (6.7) และในขณะที่พื้นผิวที่ฟังก์ชั่นการรุกกิจกรรมการทำงานการกระทำเคมีเร่งต่อไปโดยการดำเนินการทางกลของเพิ่มอนุภาคเล็กและปฏิกิริยา exoergic เสียดทานที่มีพื้นผิวการประมวลผล.
จากนี้ กลไกการประมวลผลของ GaAs เป็นสารละลายที่มีสารต้านอนุมูลอิสระที่เป็นจำนวนเล็ก ๆ ของไฮดรอกไซอัลคาไลน์จะถูกเพิ่มมีประสิทธิภาพโดยทั่วไปสำหรับขัด mechanochemical ของผลึก GaAs บรรลุพื้นผิวที่มีคุณภาพสูงโดยการเพิ่มตัวแทน DN กับฟังก์ชั่นการเจาะพื้นผิวช่วยให้การกำจัดของผลิตภัณฑ์ปฏิกิริยา (ภาพยนตร์คราบ) จากพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในปฏิกิริยาเหล่านี้ ( 6.5 ) , ( 6.6 ) และ ( 6.7 ) และในขณะที่ฟังก์ชันกิจกรรมเจาะพื้นผิวการทำงาน , สารเคมีในการกระทำเร่งต่อไปโดยการกระทำเชิงกลของเพิ่มอนุภาคขนาดเล็กและแรงเสียดทาน exoergic ปฏิกิริยากับพื้นผิวการประมวลผล การประมวลผลของ GaAs
จากกลไก ,สารละลายที่มีสารที่มีปริมาณน้อยของด่างโซดาไฟ คือเพิ่มเป็นที่มีประสิทธิภาพสำหรับการขัด mechanochemical 6 คริสตัล พื้นผิวที่มีคุณภาพสูงโดยการเพิ่มเจ้าหน้าที่ DN กับพื้นผิวการเจาะฟังก์ชันช่วยในการกำจัดผลิตภัณฑ์ปฏิกิริยา ( ภาพยนตร์ , คราบ
) จากพื้นผิว