The photo active compound of AZ® an

The photo active compound of AZ® and TI
photoresists belongs to the group of
diazonaphtho-quinone-sulphonates (DNQ).
Their presence in photoresists reduces the alkaline
solubility by more than one order of
magnitude (Meyerhofer-plot right-hand).
During exposure, the DNQ transforms into a
carboxylic acid, accompanied by the release of
nitrogen and the absorption of water (schema
overleaf). Thus, the alkaline solubility increases
by several orders of magnitude and is
finally more than one order of magnitude
higher as compared to pure Novolak

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ผสมรูปถ่ายที่ใช้งานอยู่ของ AZ ®และตี้photoresists เป็นสมาชิกกลุ่มdiazonaphtho-quinone-sulphonates (DNQ)สถานะของตนใน photoresists ลดการด่างละลาย โดยลำดับหนึ่งขนาด (Meyerhofer-พล็อตทางขวามือ)ในระหว่างการเปิดรับแสง DNQ แปลงเป็นการcarboxylic กรด พร้อม ด้วยการเปิดตัวของไนโตรเจนและการดูดซึมน้ำ (เค้าร่างoverleaf) ดังนั้น เพิ่มการละลายด่างโดยหลายอันดับของขนาดและสุดท้ายหนึ่งสั่งของขนาดสูงเมื่อเทียบกับ Novolak บริสุทธิ์

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปสารประกอบที่ใช้งานของAZ®และ TI
photoresists อยู่ในกลุ่มของ
sulphonates diazonaphtho-quinone (DNQ).
การแสดงตนของพวกเขาใน photoresists ลดด่าง
ละลายมากกว่าหนึ่งคำสั่งของ
ขนาด (Meyerhofer พล็อตขวามือ).
ในระหว่างการเปิดรับ , DNQ เปลี่ยนเป็น
กรดคาร์บอกซิพร้อมกับการเปิดตัวของ
ไนโตรเจนและการดูดซึมของน้ำ (เค้าร่าง
ของใบ) ดังนั้นการเพิ่มขึ้นของการละลายด่าง
โดยคำสั่งหลายขนาดและเป็น
ที่สุดมากกว่าหนึ่งลำดับความสำคัญ
ที่สูงขึ้นเมื่อเทียบกับบริสุทธิ์โนโว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปที่ใช้สารประกอบของ® AZ และ Ti
photoresists เป็นของกลุ่ม
diazonaphtho ควิโนน sulphonates ( DNQ ) .
ของตนใน photoresists ลดการละลายด่าง
มากกว่าหนึ่งเพื่อ
ขนาด ( meyerhofer ในระหว่างการแปลงขวามือ )
,
DNQ เปลี่ยนเป็นกรดคาร์บอกซิลิค พร้อม โดย ปล่อย
ไนโตรเจนและการดูดซึมน้ำ ( schema
กลับด้าน ) ดังนั้นในการละลายด่างเพิ่ม
โดยคําสั่งหลายขนาดและ
ในที่สุดมากกว่าหนึ่งอันดับของขนาด
ที่สูงขึ้นเมื่อเทียบกับ novolak บริสุทธิ์