ZnO thin films are widely used as a

ZnO thin films are widely used as antireflection layer in solar cells and can be grown by various techniques implemented at various temperatures. In this contribution, we present the morphological and optical properties of ZnO thin films prepared by spray pyrolysis on glass substrates at various growth temperatures from 350 to 550 °C. The surface morphology of the films, analysed by scanning electron microscopy SEM, is modified with substrate temperature. Optical characterizations of ZnO films as a function of temperature were carried out by transmittance and photoluminescence (PL) measurements. Main optical properties are as follow: All the films are highly transparent in the visible region of the electromagnetic spectrum. The average transmission in the visible range (400–800 nm) was greater than 80%. The band gap of ZnO films increases with increasing substrate temperatures attributed to the increase of the grain size of thesample.PL spectrum of ZnO films can be divided into the UV emission and the visible broadband emission attributed to the near band edge emission (NBE) and to the deep level emissions (DLE), respectively. The biggest ratio of UV emission on visible emission of the PL intensity is observed for the ZnO thin film deposited at 550 °C by the spray pyrolysis technique. Therefore, we suggest that this original result indicate the most suitable growing conditions for obtaining high quality sprayed ZnO thin films with higher luminescence performances

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ฟิล์มบางของ ZnO ใช้เป็นชั้น antireflection ในเซลล์แสงอาทิตย์ และสามารถปลูกได้ โดยเทคนิคต่าง ๆ ที่นำมาใช้ที่อุณหภูมิต่าง ๆ ในส่วนนี้ เรานำเสนอคุณสมบัติสัณฐาน และแสงของฟิล์มบาง ZnO ที่เตรียม โดยการไพโรไลซิพ่นบนพื้นผิวแก้วที่ต่าง ๆ เจริญเติบโตอุณหภูมิจาก 350 ที่ 550 องศาเซลเซียส สัณฐานวิทยาที่พื้นผิวของฟิล์ม analysed โดยสแกน SEM microscopy อิเล็กตรอน มีการปรับเปลี่ยน มีอุณหภูมิพื้นผิว Characterizations แสงของฟิล์ม ZnO เป็นฟังก์ชันของอุณหภูมิถูกดำเนิน โดย transmittance และวัด photoluminescence (PL) คุณสมบัติแสงหลักมีดังต่อไปนี้: ฟิล์มทั้งหมดจะโปร่งใสสูงในภูมิภาคเห็นของสเปกตรัมแม่เหล็กไฟฟ้า การส่งผ่านค่าเฉลี่ยในระยะที่มองเห็น (400-800 nm) มีมากกว่า 80% ช่องว่างวงของฟิล์ม ZnO เพิ่มกับเพิ่มพื้นผิวอุณหภูมิที่เกิดจากการเพิ่มขึ้นของเมล็ดขนาดของสเปกตรัม thesample.PL ของฟิล์ม ZnO สามารถแบ่งมลพิษ UV และมลพิษบรอดแบนด์ที่เห็นเกิดจากใกล้วงขอบมลพิษ (NBE) และปล่อยระดับลึก (DLE), ตามลำดับ อัตราส่วนที่ใหญ่ที่สุดของ UV มลพิษในไอเสียเห็นความเข้ม PL เป็นสังเกตสำหรับฟิล์มบาง ZnO ฝากที่ 550 ° C โดยเทคนิคสเปรย์ไพโรไลซิ ดังนั้น ขอแนะนำว่า ผลลัพธ์นี้เดิมระบุเงื่อนไขเติบโตเหมาะสมที่สุดสำหรับการได้รับคุณภาพพ่นฟิล์มบาง ZnO มีสูง luminescence แสดง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ซิงค์ออกไซด์ฟิล์มบางที่มีการใช้กันอย่างแพร่หลายเป็นชั้นสะท้อนในเซลล์แสงอาทิตย์และสามารถปลูกได้โดยใช้เทคนิคต่างๆที่นำมาใช้ที่อุณหภูมิต่างๆ ในผลงานนี้เรานำเสนอคุณสมบัติทางสัณฐานวิทยาและแสงของ ZnO ฟิล์มบางที่จัดทำโดยไพโรไลซิสเปรย์บนพื้นผิวแก้วที่อุณหภูมิต่างๆเจริญเติบโต 350-550 องศาเซลเซียส สัณฐานพื้นผิวของภาพยนตร์วิเคราะห์โดยใช้กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนสแกน SEM, มีการแก้ไขที่มีอุณหภูมิพื้นผิว สมบัติทางแสงของฟิล์มซิงค์ออกไซด์เป็นหน้าที่ของอุณหภูมิได้ดำเนินการโดยการส่งผ่านและ photoluminescence (PL) วัด คุณสมบัติทางแสงหลักมีดังนี้ภาพยนตร์ทุกเรื่องที่มีความโปร่งใสสูงในภูมิภาคท​​ี่มองเห็นของสเปกตรัมแม่เหล็กไฟฟ้า ส่งเฉลี่ยในช่วงที่มองเห็นได้ (400-800 นาโนเมตร) สูงกว่า 80% ช่องว่างของวงดนตรีของฟิล์มซิงค์ออกไซด์เพิ่มขึ้นกับการเพิ่มขึ้นของอุณหภูมิพื้นผิวประกอบกับการเพิ่มขึ้นของขนาดเม็ดของสเปกตรัม thesample.PL ของฟิล์มซิงค์ออกไซด์ที่สามารถแบ่งออกเป็นการปล่อยรังสียูวีและการปล่อยความเร็วสูงประกอบกับการมองเห็นขอบวงใกล้ปล่อย (NBE) และ ที่จะปล่อยระดับลึก (DLE) ตามลำดับ อัตราส่วนที่ใหญ่ที่สุดของการปล่อยรังสียูวีในการปล่อยก๊าซที่มองเห็นของความเข้มของ PL เป็นที่สังเกตสำหรับฟิล์มบางซิงค์ออกไซด์ฝากที่ 550 องศาเซลเซียสโดยใช้เทคนิคไพโรไลซิสเปรย์ ดังนั้นเราจึงชี้ให้เห็นว่าผลเดิมนี้บ่งบอกถึงสภาพการเจริญเติบโตที่เหมาะสมที่สุดสำหรับการได้รับการฉีดพ่นที่มีคุณภาพสูงฟิล์มบางซิงค์ออกไซด์กับการแสดงแสงเรืองที่สูงขึ้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ฟิล์มบางซิงค์ออกไซด์ที่ใช้กันอย่างแพร่หลาย เช่น antireflection ในชั้นเซลล์แสงอาทิตย์ และสามารถปลูกโดยใช้เทคนิคต่างๆ ที่อุณหภูมิต่าง ๆ ในส่วนนี้เรานำเสนอลักษณะทางสัณฐานวิทยาและสมบัติทางแสงของฟิล์มบางซิงค์ออกไซด์ที่เตรียมโดยสเปรย์ไพโรไลซีสบนพื้นผิวแก้วที่อุณหภูมิการเจริญเติบโตต่างๆจาก 350 550 องศา ลักษณะพื้นผิวของฟิล์มวิเคราะห์ข้อมูลโดยการสแกนด้วยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนชนิดส่องกราด ดัดแปลงกับอุณหภูมิพื้นผิว การศึกษาคุณสมบัติทางแสงของฟิล์มซิงค์ออกไซด์ที่เป็นฟังก์ชันของอุณหภูมิ พบว่า โดยการส่งผ่านและโฟโตลูมิเนสเซนซ์ ( PL ) วัด คุณสมบัติของแสงหลักเป็นดังนี้ ภาพยนตร์ทั้งหมดจะโปร่งใสในภูมิภาคที่มองเห็นของสเปกตรัมแม่เหล็กไฟฟ้าส่งโดยเฉลี่ยในช่วงที่มองเห็นได้ ( 400 - 800 nm ) ได้มากกว่า 80% ช่องว่างแถบของซิงค์ออกไซด์ฟิล์มเพิ่มขึ้นเมื่อเพิ่มอุณหภูมิพื้นผิวจากการเพิ่มขึ้นของขนาดเกรนของฟิล์ม ZnO thesample.pl สเปกตรัมของรังสี UV สามารถแบ่งออกได้เป็น และมองเห็นการบรอดแบนด์จากขอบวงใกล้ออก ( คน ) และการปล่อยก๊าซเรือนกระจกในระดับลึก ( ก )ตามลำดับ สัดส่วนที่ใหญ่ที่สุดของการมองเห็นของรังสี UV คุณเข้มสังเกตสำหรับฟิล์มบาง ZnO ฝากไว้ที่ 550 องศา C โดยสเปรย์ไพโรเทคนิค ดังนั้นเราจึงขอแนะนำว่าผลเดิมที่ระบุที่เหมาะสมที่สุด เติบโต เงื่อนไขในการได้รับคุณภาพสูงพ่นฟิล์มบาง ZnO มีสูงกว่าการการแสดง