Top-down Fabrication techniques e-b

Top-down Fabrication techniques
e-beam lithography
FIB – focused ion beam
DPN – dip pen nanolithography
Requires major facilities, control below 100 nm is a challenge, can not obtain high aspect ratio.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เทคนิคการผลิตจากบนลงล่าง
อีคานพิมพ์หิน
ปด - เน้นลำแสงไอออน
dpn - จุ่มปากกานาโน
ต้องใช้สิ่งอำนวยความสะดวกที่สำคัญการควบคุมต่ำก​​ว่า 100 นาโนเมตรเป็นความท้าทายที่ไม่สามารถได้รับอัตราส่วนที่สูง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เทคนิคการประดิษฐ์ลงบน
ภาพพิมพ์หินอีคาน
ตอแหล – โฟกัสไอออนบีม
DPN – nanolithography ปากกาจุ่ม
ต้องอำนวยความสะดวกหลัก ควบคุมด้านล่าง 100 nm เป็นความท้าทาย สามารถได้รับอัตราสูง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

บนลงล่างแต่งเทคนิค
ตามมาตรฐานอี - ลำแสงพิมพ์
กุ - ไอออนลำแสงโฟกัส
dpn - แช่ตัวปากกา nanolithography
ตามมาตรฐานที่สำคัญต้องมีส่วนอำนวยความสะดวกต่างๆ,การควบคุมด้านล่าง 100 nm เป็นการท้าทายที่ไม่สามารถได้รับสูงอัตราการจัดมุมมอง.