The glow-discharge chamber was pump

The glow-discharge chamber was pumped down to a base pressure of 3 Pa. The samples were plasma-etched in argon at 800 Pa, 350 °C for 30 min. Nitriding was performed for 5 h in a 80%-N
gas mixture, flow rate of 20 sccm, and pressure of 800 Pa. To maintain the sample temperature at 450 °C, the voltage was adjusted to 347 V and the current to 287 mA. The sample holder was designed such as to decrease edge effects during the treatment, allowing the insertion of three samples in circular troughs, leveling the surfaces exposed to the plasma.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หอปล่อยเรืองแสงถูกสูบลงไปดันฐาน 3 Pa. ตัวอย่างถูกสลักพลาสม่าในอาร์กอนที่ 800 ทำ Pa, 350 ° C สำหรับ 30 นาทีทำไนไตรด์สำหรับ h 5 ใน 80%-Nแก๊สผสม อัตราการไหลของ 20 sccm และความดันของ 800 Pa. การรักษาอุณหภูมิอย่างที่ 450 ° C แรงดันไฟฟ้าถูกปรับ 347 V และกระแสการ 287 mA ยึดอย่างถูกออกแบบมาเช่นลดขอบผลการรักษา ให้แทรกตัวอย่างที่สามในวงกลม troughs ปรับระดับพื้นผิวที่สัมผัสกับพลาสมา

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ห้องเรืองแสงปล่อยถูกสูบลงไปดันฐาน 3 Pa. กลุ่มตัวอย่างที่ได้รับการพลาสม่าฝังในอาร์กอนที่ 800 ป่า 350 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 30 นาที ไนไตรด์ที่ได้ดำเนินการเป็นเวลา 5 ชั่วโมงใน 80% -N
ก๊าซผสมอัตราการไหล 20 SCCM และความดัน 800 Pa. ในการรักษาอุณหภูมิของตัวอย่างที่ 450 องศาเซลเซียสแรงดันไฟฟ้าที่ถูกปรับให้ 347 V และปัจจุบัน 287 mA . ผู้ถือตัวอย่างได้รับการออกแบบเช่นเพื่อลดผลกระทบที่ขอบในระหว่างการรักษาที่ช่วยให้การแทรกในสามของกลุ่มตัวอย่างในร่องวงกลม, การปรับระดับพื้นผิวสัมผัสกับพลาสม่า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เรืองแสงออกจากห้องถูกสูบลงไปที่ฐานความดัน 3 . กลุ่มตัวอย่างพลาสมาแกะสลักในอาร์กอนที่ 800 PA 350 องศา C เป็นเวลา 30 นาที ไนไตรดิงแสดง 5 H ใน 80% - -
ส่วนผสมแก๊ส อัตราการไหลและความดัน sccm 20 , 800 . เพื่อรักษาอุณหภูมิของตัวอย่าง 450 องศา C แรงดันไฟฟ้าให้อยู่ในระดับที่เหมาะสมและ V และปัจจุบันมา 287 .ตัวอย่าง เช่น ผู้ถูกออกแบบมาเพื่อลดขอบผลในระหว่างการรักษา ให้แทรกตัวอย่าง 3 รางน้ำ วงกลม ปรับระดับพื้นผิวสัมผัสกับพลาสมา