XPS studies (Fig. 3B-III) has shown

XPS studies (Fig. 3B-III) has shown only CuI speciation present on Cp
surface under similar pulp conditions (Eh ~−100 mV and pH ~9).
NEXAFS analysiswas able to showCuII oxidation products, as absorption
cross-section (transition probability) for CuII has been estimated to be
approximately 25 times that of CuI because of the availability of d-like
unfilled states in the nominally d9 system compared with the d10
configuration [49]. The absorption peak energy of 931.3 eV reported
for the CuII–oxygen species (Fig. 6cii) in the spectra was the same as
that observed by Goh et al. [17] for copper metal, exposed to air for
several days and for CuO powder [46]. It is also close to the value of
931.2 eV reported for tenorite (CuO) by van der Laan et al. [48]. Jiang
et al. [47] reported CuII oxidation peak at BE 930.0 eV for Cu thin film
after in-situ oxidation at nominally 0.2 V. Therefore the Cu L3-edge
absorption energies determined in the present investigation for the Cp
sample at reductive conditions are directly comparable with those
found previously [46–48]. The formation of CuII–oxygen species may result
from exposure to air or desorption of xanthate from the mineral
surface. Both xanthate and perxanthate were observed in solution
using UV–vis, Fig. 2. The decomposition of CuEX in solution results in
the formation of perxanthate and the precipitation CuII oxides and
hydroxides which adsorb to the mineral particle surfaces [24].
The Fe L2,3-edge NEXAFS spectra of Eh modified Cp sample are
shown in Fig. 6di and dii. The Fe L2,3-edge NEXAFS spectra were
acquired from the same 12 ROI from where Cu L-edge spectra were
collected. Fe L3-edge absorption spectra showed two leading peaks,
one at 707.4 eV and a slightly more intense peak at 709.0 eV. The peak
at 707.4 eV is attributed to bulk FeIII in Cp and the peak at 709.0 eV is attributed to iron oxidation products (iron oxides and hydroxides).
Buffering the pulp pH to ~9 stabilises iron oxidation products on Cp surface
and leads to an increase in surface oxidation products at reductive
pulp potentials. In addition, the Cp surface, unprotected by adsorbed
collector, may have oxidised between removal from the aqueous
phase and introduction into the PEEM/XPS. A few spectra (E, C and L
in Fig. 6di and dii) showed the dominant peak at 707.4 eV, indicating
even at reductive pulp conditions, some of the Cp particles remained
relatively less oxidised.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ศึกษา XPS (Fig. 3B-III) ได้แสดงเฉพาะนคุยเกิดสปีชีส์ใหม่อยู่ในซีพีผิวเยื่อสภาวะคล้าย (Eh ~ −100 mV และค่า pH ~ 9)Analysiswas NEXAFS ที่สามารถ showCuII ผลิตภัณฑ์ออกซิเดชัน เป็นดูดซึมมีการประเมินระหว่างส่วน (น่าเป็นการเปลี่ยนแปลง) สำหรับ CuII จะประมาณ 25 ครั้งที่นคุยเนื่องจากความพร้อมของ d เหมือนรับการตอบสนองในสถานะเมื่อระบบ d9 เทียบกับ d10ตั้งค่าคอนฟิก [49] พลังงานสูงการดูดซึมของ 931.3 eV รายงานสำหรับ CuII – ออกซิเจน ชนิด (Fig. 6cii) ในแรมสเป็คตราไม่เหมือนที่สังเกตโดยโก๊ะ et al. [17] สำหรับโลหะทองแดง สัมผัสกับอากาศหลายวัน และ สำหรับ CuO ผง [46] มีค่าของ931.2 eV รายงานสำหรับ tenorite (CuO) โดย van der Laan et al. [48] เจียงร้อยเอ็ด al. [47] รายงาน CuII ออกซิเดชันสูงที่จะ 930.0 eV สำหรับฟิล์มบาง Cuหลังจากในการวิเคราะห์การเกิดออกซิเดชันในนาม 0.2 V ดังนั้น Cu L3-ขอบดูดซึมพลังงานที่กำหนดในปัจจุบันสำหรับจุดตัวอย่างเงื่อนไขกล้าหาญที่จะเปรียบเทียบโดยตรงกับผู้พบก่อนหน้านี้ [46 – 48] อาจส่งผลให้การก่อตัวของพันธุ์ CuII – ออกซิเจนจากสัมผัสกับอากาศหรือ desorption xanthate จากแร่พื้นผิว Xanthate และ perxanthate ถูกพบในโซลูชั่นใช้ UV – vis, Fig. 2 เกิดการเน่าของ CuEX ในโซลูชันการก่อตัวของ perxanthate และออกไซด์ CuII ฝน และhydroxides ที่ชื้นกับพื้นผิวของอนุภาคแร่ [24]Fe L2, Cp เป็นตัวอย่างปรับเปลี่ยนแรมสเป็คตรา NEXAFS 3-ขอบของ Ehแสดงใน Fig. 6di และดีทู Fe L2 มีขอบ 3 NEXAFS แรมสเป็คตรามาจากร้อย 12 เหมือนกันจากที่มี Cu L ขอบแรมสเป็คตรารวบรวม แรมสเป็คตราในการดูดซึมขอบ L3 Fe พบสองยอดชั้นนำหนึ่งที่ 707.4 eV และสูงสุดที่ 709.0 eV รุนแรงเล็กน้อย จุดสูงสุดที่ 707.4 eV บันทึกจำนวนมาก FeIII ใน Cp และมีบันทึกสูงสุดที่ 709.0 eV ผลิตภัณฑ์ออกซิเดชันเหล็ก (เหล็กออกไซด์และ hydroxides)บัฟเฟอร์ pH เยื่อ ~ 9 stabilises ผลิตภัณฑ์ออกซิเดชันเหล็กบนพื้นผิวของ Cpนำไปสู่การเพิ่มขึ้นของผลิตภัณฑ์ผิวออกซิเดชันที่กล้าหาญเยื่อศักยภาพ ป้องกัน พื้นผิว Cp โดย adsorbedรวบรวม อาจมี oxidised ระหว่างเอาจากอควีขั้นตอนและแนะนำเป็น PEEM/XPS กี่แรมสเป็คตรา (E, C และ LFig. 6di และดีทู) พบสูงสุดหลักที่ 707.4 eV แสดงแม้ในสภาพเยื่อกล้าหาญ บางส่วนของอนุภาค Cp ยังคงค่อนข้างน้อย oxidised

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การศึกษา XPS (รูป. 3B-III) ได้แสดงให้เห็นเท่านั้นปัจจุบัน speciation Cui ใน Cp
พื้นผิวภายใต้เงื่อนไขที่คล้ายเยื่อกระดาษ (เอ๊ะ ~ -100 mV และค่า pH ~ 9).
NEXAFS analysiswas สามารถ showCuII ผลิตภัณฑ์ออกซิเดชันการดูดซึม
cross-section (น่าจะเป็นการเปลี่ยนแปลง ) สำหรับ CuII ได้รับการคาดว่าจะมี
ประมาณ 25 เท่าของ Cui เพราะความพร้อมของ D-เช่น
รัฐที่ไม่สำเร็จในระบบ d9 นามเมื่อเทียบกับ D10
การกำหนดค่า [49] พลังงานสูงสุดการดูดซึมของ 931.3 eV รายงาน
สำหรับสายพันธุ์ CuII ออกซิเจน (รูป. 6cii) ในสเปกตรัมเป็นเช่นเดียวกับ
ที่พบโดยโก๊ะและคณะ [17] โลหะทองแดงสัมผัสกับอากาศสำหรับ
หลายวันและผง CuO [46] นอกจากนี้ยังอยู่ใกล้กับค่าของ
931.2 eV รายงาน tenorite (CuO) โดยแวนเดอร์ Laan และคณะ [48] เจียง
และคณะ [47] รายงานยอดออกซิเดชันที่ CuII พ.ศ. 930.0 eV สำหรับ Cu ฟิล์มบาง ๆ
หลังจากการเกิดออกซิเดชันในแหล่งกำเนิดที่นาม 0.2 V. ดังนั้น Cu L3 ขอบ
พลังงานการดูดซึมที่กำหนดไว้ในการตรวจสอบในปัจจุบันสำหรับ Cp
ตัวอย่างที่สภาวะลดลงโดยตรงทัดเทียมกับ
พบก่อนหน้านี้ [46-48] การก่อตัวของสายพันธุ์ CuII ออกซิเจนอาจเป็นผล
จากการสัมผัสกับอากาศหรือคายของ xanthate จากแร่
พื้นผิว ทั้ง xanthate perxanthate และถูกตั้งข้อสังเกตในการแก้ปัญหา
โดยใช้ UV-Vis, รูป 2. การสลายตัวของ CuEX ในผลการแก้ปัญหาใน
การก่อตัวของ perxanthate และออกไซด์ CuII ฝนและ
ไฮดรอกไซซึ่งจะดูดซับพื้นผิวของอนุภาคแร่ [24].
เฟ L2,3 ขอบ NEXAFS สเปกตรัมของเอ๊ะแก้ไขตัวอย่าง Cp จะ
แสดงในรูป . 6di และ DII เฟ L2,3 ขอบ NEXAFS สเปกตรัมถูก
ที่ได้มาจากที่เดียวกัน 12 ผลตอบแทนการลงทุนจากการที่ลูกบาศ์กสเปกตรัม L-ขอบถูก
เก็บรวบรวม สเปกตรัมการดูดซึมเฟ L3 ขอบแสดงให้เห็นสองยอดชั้นนำ
หนึ่งที่ 707.4 eV และสูงสุดที่รุนแรงมากขึ้นเล็กน้อยที่ 709.0 eV สูงสุด
ที่ 707.4 eV มีสาเหตุมาจาก FeIII กลุ่มใน Cp และสูงสุดที่ 709.0 eV มีสาเหตุมาจากการเกิดออกซิเดชันผลิตภัณฑ์เหล็ก (เหล็กออกไซด์และไฮดรอกไซ).
บัฟเฟอร์ค่า pH เยื่อกระดาษเพื่อ ~ 9 รักษาผลิตภัณฑ์ออกซิเดชันเหล็กบนพื้นผิว Cp
และนำไปสู่การเพิ่มขึ้น ในพื้นผิวผลิตภัณฑ์ออกซิเดชันที่ลดลง
ศักยภาพเยื่อกระดาษ นอกจากนี้พื้นผิว Cp, ไม่มีการป้องกันโดยการดูดซับ
สะสมอาจจะเหลี่ยมระหว่างออกจากน้ำ
เฟสและการแนะนำในการ PEEM / XPS สเปกตรัมไม่กี่ (E, C และ L
ในรูป. 6di และ DII) แสดงให้เห็นว่ายอดที่โดดเด่นที่ 707.4 eV แสดงให้เห็น
แม้ในสภาพเยื่อกระดาษลดลงบางส่วนของอนุภาค Cp ยังคง
ค่อนข้างเหลี่ยมน้อย

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

XPS Studies ( รูปที่ 3b-iii ) ได้แสดงเพียง ซุย ชนิดปัจจุบันบนพื้นผิว CP
ภายใต้สภาวะเยื่อเหมือนกัน ( เอ๊ะ ~ − 100 หาบและ pH ~ 9 )
nexafs และสามารถ showcuii ผลิตภัณฑ์ออกซิเดชัน เป็นภาพตัดขวางการดูดซึม
( น่าจะเป็นการเปลี่ยนแปลง ) สำหรับ cuii ได้ถูกประเมินเป็น
ประมาณ 25 เท่าของชุย เพราะ ความพร้อมของ d-like
ลีบรัฐในนามของระบบเมื่อเทียบกับ D9 D10
ค่า [ 49 ] การดูดซึมสูงสุดพลังงานของ 931.3 EV รายงาน
สำหรับ cuii –ชนิดออกซิเจน ( รูปที่ 6cii ) ในนี้ก็เหมือน
ที่สังเกตโดยโก et al . [ 17 ] สำหรับโลหะทองแดงสัมผัสกับอากาศสำหรับ
หลายวันและผง 2 ( [ 46 ] นอกจากนี้ยังใกล้กับค่า
931 .2 รายงานทีโนไรต์ ( 2 ( EV ) โดย แวน เดอ แลน et al . [ 48 ] เจียง
et al . [ 47 ] รายงาน cuii ออกซิเดชันสูงสุดที่เป็น 930.0 EV สำหรับฟิล์มบาง Cu
หลังจากออกซิเดชันที่ 0.2 V ดังนั้นควบคู่ในนามจุฬาฯ L3
การดูดกลืนพลังงานกำหนดขอบในปัจจุบันการสืบสวนของ CP
ตัวอย่างที่เงื่อนไขซึ่งโดยเทียบเคียงกับที่พบก่อนหน้านี้
[ 46 - 48 ]การก่อตัวของ cuii –ชนิดออกซิเจนอาจส่งผล
จากการสัมผัสกับอากาศ หรือการปลดปล่อยจากพื้นผิวแร่ภูเก็ต

ทั้งสองและเป็นสารละลายแซน perxanthate
ใช้ UV – Vis , รูปที่ 2 การสลายตัวของ cuex ในผลลัพธ์ในรูปแบบของโซลูชั่น
perxanthate และตกตะกอน cuii ออกไซด์ไฮดรอกไซด์ซึ่งดูดซับและ
กับแร่อนุภาคพื้นผิว [ 24 ] .
O L2 ,3-edge nexafs สเปกตรัมของเอ๋แก้ไข CP ตัวอย่าง
แสดงในรูปและ 6di ดี . เหล็ก l2,3-edge nexafs SPECTRA ถูก
ได้มาจากเดิม 12 ร้อยจากที่จุฬาฯ l-edge SPECTRA ถูก
รวบรวม เฟ L3 ขอบการดูดกลืนรังสี ให้นำยอด
หนึ่งที่ 707.4 EV และยอดเล็กน้อยรุนแรงมากขึ้นที่ 709.0 EV ยอด
ที่ 707.4 EV จากกลุ่ม feiii CP และสูงสุดที่คุณ .0 EV จะเกิดจากการออกซิเดชัน ( ผลิตภัณฑ์เหล็กออกไซด์เหล็กและซีเมนต์เยื่อกระดาษ ) .
บัฟเฟอร์ pH ~ 9 stabilises เหล็กสนิมบนพื้นผิวผลิตภัณฑ์
ซีพี และนำไปสู่การเพิ่มพื้นผิวที่ผลิตผลิตภัณฑ์ปฏิกิริยา reductive
ศักยภาพ นอกจากนี้ พื้นผิวของ CP , ไม่มีการป้องกันโดยดูดซับ
สะสมอาจจะหมดระหว่างการเอาออกจากน้ำ
เฟสและการแนะนำเข้าสู่ peem / XPS .บางช่วง ( E , C และ L
ในรูปและ 6di ดี ) มียอดเด่นที่ 707.4 EV แสดงว่า
ที่เยื่อซึ่งเงื่อนไขบางอย่างของ CP อนุภาคยังคงอยู่
ค่อนข้างน้อยได้หมด .