Electrodes with the width of 200 μm

Electrodes with the width of 200 μm and the length of 10 μm were fabricated by photolithography and electron beam deposition of Au on Si substrate covered with 300 nm thick SiO2.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หุงตกับความกว้างของ 200 μm และความยาวของ 10 μm ถูกหลังสร้าง โดย photolithography และอิเล็กตรอนคานสะสมของอูบนพื้นผิวสีที่ปกคลุม ด้วย 300 nm SiO2 ที่หนา

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ขั้วไฟฟ้าที่มีความกว้าง 200 เมตรและความยาวของ 10 ไมโครเมตรถูกประดิษฐ์โดย photolithography อิเล็กตรอนและการสะสมลำแสงของ Au บนพื้นผิวศรีปกคลุมด้วย 300 นาโนเมตรหนา SiO2

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ขั้วไฟฟ้าที่มีความกว้าง 200 μเมตรและความยาว 10 μ M ถูกประดิษฐ์โดย 43 และลำแสงอิเล็กตรอนในการสะสมของ AU ศรีพื้นผิวปกคลุมด้วยพ่นหนา 300 นาโนเมตร