A local high pressure micro plasma

A local high pressure micro plasma jet performed in a SEM
chamber was proposed. A small orifice gas nozzle having 40 mm in
diameter was used to sputter a Silicon substrate locally. Gap
distance, gas flow rate and discharge parameters (Id, Vd and Td)
playing an important role in the characteristics of local sputter
etching were studied. By using Ar 2.5 sccm gas flow rate at a gap
distance of 100 mm, the sputtering rate of the Silicon substrate was
0.01 mm/s with 60 mm in diameter at DC power of 1.68 mW. The
sputtered area was very smooth compared to its edge where there
were redeposited Si particles and bubbles. To achieve a good result
of sputtered area and sputtering rate it is important that, the
aforementioned parameters should be chosen properly.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เจ็ทไมโครพลาสมาความดันสูงท้องถิ่นดำเนินการใน SEM เป็นหอการค้าถูกนำเสนอ หัวฉีดแก๊สเล็ก ๆ orifice มี 40 มม.เส้นผ่าศูนย์กลางใช้ละล่ำละลักซิลิคอนพื้นผิวภายใน ช่องว่างห่างจากที่พัก แก๊สไหลพารามิเตอร์อัตราและปล่อย (รหัส Vd และ Td)เล่นมีบทบาทสำคัญในลักษณะของท้องถิ่น sputterกัดได้ศึกษา โดยใช้อัตราการไหลก๊าซ sccm Ar 2.5 ที่ช่องว่างระยะ 100 mm, sputtering อัตราพื้นผิวซิลิกอนที่ถูกมม. 0.01 s กับ 60 มม.เส้นผ่านศูนย์กลางที่ไฟ DC ของ 1.68 mW ที่ตั้ง sputtered ถูกมากเมื่อเทียบกับขอบของที่มีขึ้นในอนุภาคและฟอง redeposited เพื่อให้บรรลุผลลัพธ์ที่ดีตั้ง sputtered และอัตราพ่น มันเป็นสิ่งสำคัญที่ควรเลือกพารามิเตอร์ดังกล่าวอย่างถูกต้อง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความดันสูงในท้องถิ่นเจ็ทพลาสม่าขนาดเล็กดำเนินการใน SEM
ห้องถูกเสนอ หัวฉีดก๊าซปากเล็กมี 40 มิลลิเมตร
เส้นผ่าศูนย์กลางถูกใช้ในการพ่นสารตั้งต้น Silicon ท้องถิ่น ช่องว่าง
ระยะทาง, อัตราการไหลของก๊าซและพารามิเตอร์ปล่อย (Id, VD และ Td)
มีบทบาทสำคัญในลักษณะของการพ่นท้องถิ่น
การแกะสลักการศึกษา โดยใช้ Ar 2.5 SCCM อัตราการไหลของก๊าซที่ทำให้เกิดช่องว่าง
ระยะ 100 มมอัตราสปัตเตอร์ของพื้นผิวซิลิคอนเป็น
0.01 มม / วินาทีกับ 60 มิลลิเมตรเส้นผ่าศูนย์กลางที่ไฟ DC 1.68 mW
พื้นที่ sputtered เป็นไปอย่างราบรื่นมากเมื่อเทียบกับขอบที่มี
ถูก redeposited อนุภาคศรีและฟองอากาศ เพื่อให้บรรลุผลที่ดี
ของพื้นที่ sputtered และอัตราสปัตเตอร์มันเป็นสิ่งสำคัญที่
พารามิเตอร์ดังกล่าวควรได้รับการแต่งตั้งอย่างถูกต้อง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ท้องถิ่น ความดันสูง ไมโครพลาสมาแสดงใน SEM
หอการค้าฯ แก๊สหัวฉีดที่มีรูเล็ก ๆขนาดเส้นผ่าศูนย์กลาง 40 มม.
ใช้ปะทุเป็นซิลิคอนในประเทศ ช่องว่างระยะห่าง
, อัตราการไหลของแก๊สและปล่อยพารามิเตอร์ ( ID , กามโรคและ TD )
มีบทบาทสําคัญในลักษณะท้องถิ่นละล่ำละลัก
แกะสลักเพื่อ โดยการใช้ AR 2.5 sccm อัตราการไหลของแก๊สที่ช่องว่าง
ระยะทาง 100 มิลลิเมตร อัตราการสปัตเตอริงของซิลิคอนคือ
0.01 mm / s 60 มม. ที่ไฟ DC ของ 1.68 MW
sputtered พื้นที่มากเมื่อเปรียบเทียบกับของที่มีขอบเรียบ
ถูก redeposited ศรีอนุภาคและฟองอากาศ เพื่อให้ได้ผลที่ดีของพื้นที่และสปัตเตอร์
sputtered คะแนนมันสำคัญว่า ตัวแปรดังกล่าวควรเลือกอย่างถูกต้อง

.