Another challenge was stripping of

Another challenge was stripping of AZ P4620 photoresist
when patterning paraffin by lift-off. In our work, acetone, which
is commonly used for resist stripping in conventional processing,
could not be used since it dissolves paraffin. Thus, pure and
undiluted AZ400K developer was used instead to strip AZP4620
photoresist. To enhance photoresist removal, photoresist pattern
was flood exposed prior to depositing paraffin.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความท้าทายอีกลอกของอาริโซน่า P4620
ไวแสงเมื่อเลียนแบบพาราฟินด้วยลิฟท์ออก ในการทำงานของเราอะซีโตนซึ่งเป็นที่นิยมใช้ในการต่อต้านการปอกในการประมวลผลแบบเดิมไม่สามารถนำมาใช้ตั้งแต่มันละลายพาราฟิน ดังนั้นบริสุทธิ์และพัฒนา AZ400K เจือปนถูกนำมาใช้แทนเพื่อดึง AZP4620 ไวแสง เพื่อเพิ่มการกำจัดสารไวแสงรูปแบบไวแสงที่ถูกน้ำท่วมก่อนที่จะมีการเปิดรับฝากพาราฟิน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ความท้าทายอีกประการหนึ่งคือการ AZ p4620 photoresist
เมื่อเลียนแบบพาราฟิน โดยยกออก ในงาน อะซิโตน ของเรา ซึ่งเป็นที่นิยมใช้สำหรับต้านทานการ

ในการประมวลผลทั่วไป ไม่ควรใช้ เพราะมันละลายพาราฟิน ดังนั้น บริสุทธิ์และ
พัฒนา az400k เจือปนใช้แทนแถบ azp4620
ระบบ . เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพระบบการกำจัด , ระบบ
รูปแบบน้ำท่วม เผยก่อนนำพาราฟิน