Distinguishing features of HIPIMS a

Distinguishing features of HIPIMS are a high degree of ionisation of the sputtered metal and a high rate of molecular gas dissociation which result in high density of deposited films. The ionization and dissociation degree increase according to the peak cathode power. The limit is determined by the transition of the discharge from glow to arc phase. The peak power and the duty cycle are selected so as to maintain an average cathode power similar to conventional sputtering (1–10 W⋅cm−2).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

คุณสมบัติเด่นของ HIPIMS คือ ionisation โลหะ sputtered และ dissociation ก๊าซโมเลกุลซึ่งส่งผลให้ความหนาแน่นสูงของฟิล์มฝากอัตราสูงในระดับสูง การไอออไนซ์และ dissociation องศาเพิ่มขึ้นตามกำลังแคโทดสูงสุด ขีดจำกัดถูกกำหนด โดยการเปลี่ยนแปลงของการปล่อยจากเรืองแสงระยะโค้ง กำลังสูงสุดและรอบหน้าที่ถูกเลือกเพื่อรักษาพลังงานเฉลี่ยแคโทดคล้ายกับแบบสปัตเตอร์ (1-10 W⋅cm−2)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

คุณสมบัติเด่นของ HIPIMS มีระดับสูงของ Ionisation ของโลหะ sputtered และอัตราที่สูงของการแยกตัวออกก๊าซโมเลกุลซึ่งส่งผลให้ความหนาแน่นสูงของภาพยนตร์ที่ฝาก ไอออนไนซ์และระดับการแยกตัวออกเพิ่มขึ้นตามอำนาจสูงสุดแคโทด ขีด จำกัด จะถูกกำหนดโดยการเปลี่ยนแปลงของการปล่อยจาก บริษัท โกลว์เฟสโค้ง อำนาจสูงสุดและรอบหน้าที่จะถูกเลือกเพื่อรักษาอำนาจแคโทดเฉลี่ยคล้ายกับสปัตเตอร์ธรรมดา (1-10 W⋅cm-2)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ลักษณะคุณสมบัติของ hipims เป็นระดับสูงของ ionisation ของเคลือบอนุภาคโลหะและอัตราที่สูงของโมเลกุลก๊าซแตกตัวที่ส่งผลให้ความหนาแน่นสูงของฝากภาพยนตร์ ไอโอไนเซชั่นและแยกออกจากกันเพิ่มระดับตามยอดเขาขั้วอำนาจ จำกัดถูกกำหนดโดยการปล่อยจากการเรืองแสงเพื่อระยะอาร์ค จุดสูงสุดของอำนาจและรอบหน้าที่ถูกเลือกเพื่อรักษาเฉลี่ยแคโทดพลังคล้ายกับปกติสปัตเตอริง ( 1 – 10 W ⋅ cm − 2 )