there is a risk that particles will

there is a risk that particles will break loose from
reactor walls, fall down on the surface of the growing film,
and introduce pinholes in it. There might also be a source
of contamination in this reactor type because of the reaction
between the material of the reactor wall and the vapor. In the
hot wall reactor, homogeneous reactions, affecting the
deposition reactions and hence the structure of the films,
may take place in the vapor. There is a successive depletion
with respect to the reactants as they are transported through
the reactor. Such a depletion may yield different deposition
conditions within the reactor. Finally, in a hot wall reactor,
many substrates can be deposited simultaneously.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

มีความเสี่ยงที่จะทำลายอนุภาคหลวมจากผนังเครื่องปฏิกรณ์ล้มลงบนพื้นผิวของฟิล์มเติบโตและแนะนำรูในนั้น นอกจากนี้ยังอาจจะมีแหล่งที่มาของการปนเปื้อนในเครื่องปฏิกรณ์ชนิดนี้เพราะปฏิกิริยาระหว่างวัสดุของผนังเครื่องปฏิกรณ์และไอ ในเครื่องปฏิกรณ์ผนังร้อนปฏิกิริยาเป็นเนื้อเดียวกันที่มีผลต่อการเกิดปฏิกิริยาการสะสมและด้วยเหตุนี้โครงสร้างของหนังที่อาจจะเกิดขึ้นในไอ มีการสูญเสียต่อเนื่องที่เกี่ยวกับสารตั้งต้นที่พวกเขาจะถูกส่งผ่านเครื่องปฏิกรณ์ การสูญเสียดังกล่าวอาจให้การของพยานที่แตกต่างกันสภาพภายในเครื่องปฏิกรณ์ สุดท้ายในเครื่องปฏิกรณ์ผนังร้อนพื้นผิวจำนวนมากสามารถนำมาฝากพร้อมกัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

มีความเสี่ยงที่อนุภาคจะแตกออกมาจากผนังเครื่องปฏิกรณ์
ล้มลงบนพื้นผิวของการปลูกฟิล์ม
แนะนำ รูในมัน ที่นั่นอาจเป็นแหล่งของการปนเปื้อนในเครื่องปฏิกรณ์ชนิดนี้

เพราะปฏิกิริยาระหว่างวัสดุของผนังเครื่องปฏิกรณ์และไอน้ำ ใน
เครื่องปฏิกรณ์ ผนังร้อนเป็นปฏิกิริยาที่มีผลต่อ
ปฏิกิริยาการปลดออกจากตำแหน่ง และด้วยเหตุนี้ โครงสร้างของฟิล์ม
อาจจะใช้สถานที่ในไอน้ำ มี
การต่อเนื่องที่มีต่อสารตั้งต้นเช่นที่พวกเขาถูกขนส่งผ่าน
ปฏิกรณ์ เช่นการพร่องอาจผลผลิตสภาพสะสม
ต่างๆภายในเครื่องปฏิกรณ์ ในที่สุด , ในผนังเครื่องปฏิกรณ์ร้อน
หลายพื้นผิว สามารถฝากได้พร้อมกัน