ITO can also be prepared in a form

ITO can also be prepared in a form of porous electrode and it can
be obtained with different degrees of porosity that may suit
different goals [16] . One popular group are mesoporous electrodes
that offer big relative surface area (up to 20 0 m2
g 1
) [17] . There
exist a number of methods that allow deposition of thin, well-
ordered mesoporous layers. The first group of such methods are
vacuum methods like sputtering [18,19], glancing angle deposition
[20,21] , metalorganic chemical vapor deposition [22] or pulsed
laser deposition [23] .

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ITO สามารถจัดในรูปแบบของอิเล็กโทรดที่มีรูพรุน และจะสามารถได้รับองศาที่แตกต่างกันของความพรุนที่เหมาะกับเป้าหมายแตกต่างกัน [16] กลุ่มหนึ่งนิยมมีอิเล็กโทรดตัวที่มีพื้นที่ใหญ่ญาติ (20 0 m2g 1) . [17] มีมีอยู่หลายวิธีที่ทำให้การสะสมของบาง ดีสั่งตัวชั้นล่าง เป็นกลุ่มแรกของวิธีการดังกล่าววิธีดูดเช่นสปัตเตอร์ [18,19], สวยมุมสะสม[20,21], สะสมไอสารเคมี metalorganic [22] หรือตัวเลเซอร์สะสม [23]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ITO นอกจากนี้ยังสามารถจัดทำในรูปแบบของอิเล็กโทรดที่มีรูพรุนและสามารถ
รับกับองศาที่แตกต่างของความพรุนที่อาจจะเหมาะกับ
เป้าหมายที่แตกต่างกัน [16] กลุ่มหนึ่งที่เป็นที่นิยมขั้วไฟฟ้าเม
ที่มีพื้นที่ผิวขนาดใหญ่ญาติ (สูงสุด 20 m2 0
กรัม 1
) [17] มี
จำนวนของวิธีการที่ช่วยให้การสะสมของบางอยู่อย่างดี
สั่งซื้อชั้นเมโซพอรัส กลุ่มแรกของวิธีการดังกล่าวเป็น
วิธีการเช่นสูญญากาศสปัตเตอร์ [18,19] วินาศภัยทับถมมุม
[20,21] metalorganic ไอสารเคมีการสะสม [22] หรือชีพจร
ทับถมเลเซอร์ [23]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

นี้ยังสามารถเตรียมในรูปแบบของวัสดุขั้วไฟฟ้า และมันสามารถรับกับที่แตกต่างกันองศาของความพรุนที่อาจเหมาะกับที่แตกต่างกันเป้าหมาย [ 16 ] กลุ่มหนึ่งที่ได้รับความนิยมคือ เมโซขั้วไฟฟ้าที่ให้พื้นที่ผิวญาติใหญ่ ( ถึง 20 0 ตารางเมตรกรัม 1) [ 17 ] มีมีจำนวนของวิธีการที่อนุญาตให้มีการสะสมของบางดีเมโซพอรัสสั่งชั้น จึงตัดสินใจเดินทางไปที่กลุ่มของวิธีการเช่นเครื่องดูดฝุ่นวิธีการสปัตเตอร์ริง [ ] ชอบ 18,19 แหงนมุมสะสม[ 20,21 ] , metalorganic ไอสารเคมีสะสม [ 22 ] หรือพัลการเลเซอร์ [ 23 ]