Fig. 2. Composite simulated-anneali

Fig. 2. Composite simulated-annealing omit electron density maps (1000K) contoured at 1.6σ showing the quality of the
crystallographic data in the loop region. The structures were initially solved using molecular replacement with a search
model missing the entire loop (residues 287–293), and the resolution limits for each structure are listed in Table 1. DMA
refers to the dimethyl arsenic adduct that is sometimes found on Cys290 due to the crystallization conditions [10].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Fig. 2 คอมโพสิตจำลองการอบเหนียวละเว้นอิเล็กตรอนความหนาแน่นแผนที่ (1000K) contoured ที่ 1.6σ แสดงคุณภาพของการข้อมูล crystallographic ในภูมิภาควน โครงสร้างได้แก้ไขเปลี่ยนโมเลกุลด้วยการค้นหาเริ่มต้นรุ่นหายห่วงทั้งหมด (ตก 287-293), และข้อจำกัดความละเอียดของแต่ละโครงสร้างมีการระบุไว้ในตารางที่ 1 DMAหมายถึงการ dimethyl สารหนู adduct ที่บางครั้งอยู่ใน Cys290 เนื่องจากสภาพตกผลึก [10]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

มะเดื่อ 2. คอมโพสิตจำลองการหลอมงดแผนที่ความหนาแน่นของอิเล็กตรอน (1000K) โค้งที่1.6σแสดงคุณภาพของ
ข้อมูล crystallographic ในภูมิภาคห่วง โครงสร้างถูกแก้ไขในขั้นต้นโดยใช้การเปลี่ยนโมเลกุลที่มีการค้นหา
รูปแบบที่หายไปทั้งวง (ตกค้าง 287-293) และข้อ จำกัด ที่มีความละเอียดสำหรับแต่ละโครงสร้างมีการระบุไว้ในตารางที่ 1 DMA
หมายถึงการดึงเข้าหา dimethyl สารหนูที่พบในบางครั้งเนื่องจาก Cys290 เงื่อนไขที่ตกผลึก [10]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปที่ 2 คอมโพสิตการดำรงอยู่ละเว้นแผนที่ความหนาแน่นอิเล็กตรอน ( 1000k ) โค้งที่ 1.6 σแสดงคุณภาพของ
ข้อมูลทางในการวนรอบภูมิภาค โครงสร้างการเริ่มต้นแก้ไขเปลี่ยนโมเลกุลด้วยการค้นหา
แบบหายห่วงทั้งหมด ( 287 ) และ 293 ) และมติข้อ จำกัด สำหรับแต่ละโครงสร้างมีการระบุไว้ในตารางที่ 1 DMA
หมายถึงการรักษาสารหนูปุ่มตัวเลือกที่บางครั้งพบใน cys290 เนื่องจากเงื่อนไขการตกผลึก [ 10 ]