shows the PL of different photoanod

shows the PL of different photoanodes that their thickness is changed by the CdS cycles SILAR. After the CdS and CdSe QDs are sequentially deposited onto the TiO2 film, a cascade type of energy band structure is constructed for the co-sensitized photoanode

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

PL ของ photoanodes แตกต่างกันแสดงว่า มีการเปลี่ยนแปลงความหนา โดยรอบซีดี SILAR หลังจากซีดีและ CdSe QDs ลำดับฝากลงภาพยนตร์ TiO2 ชนิดเรียงซ้อนของโครงสร้างแถบพลังงานจะถูกสร้างขึ้นสำหรับ photoanode ผมร่วม

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แสดงให้เห็นถึง PL ของ photoanodes แตกต่างกันที่ความหนาของพวกเขามีการเปลี่ยนแปลงโดยซีดีรอบ SILAR หลังจากที่แผ่นซีดีและ CdSe QDS จะฝากตามลำดับบน TiO2 Fi LM ประเภทน้ำตกของกลุ่มโครงสร้างพลังงานเพื่อสร้าง photoanode ร่วมไว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แสดงคุณของ photoanodes แตกต่างกันที่ความหนาของพวกเขาจะเปลี่ยนไป โดย silar รอบซีดี หลังจาก ซีดี และ cdse ควอนตัมด็อตอยู่ราวฝากไว้บน TiO2 จึง LM , น้ำตกประเภทของโครงสร้างแถบพลังงานถูกสร้างสำหรับ Co และ photoanode