A local high pressure micro plasma

A local high pressure micro plasma jet was proposed for micro scale local sputter etching in a vacuum
system. A small orifice gas nozzle as an anode was placed in a Scanning Electron Microscope (SEM)
chamber to produce the local high gas pressure and supply Argon gas for DC plasma generation at a short
gap distance. The characteristics of local sputter etching by the micro plasma jet were studied. At DC
power of 1.68 mW, a silicon sputtering rate of approximately 0.01 mm/s was achieved by using an orifice
40 mm in diameter at 2.5 sccm gas flow rate and 100 mm gap distance. The sputtered area was 60 mm in
diameter.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เจ็ทไมโครพลาสมาความดันสูงท้องถิ่นถูกนำเสนอสำหรับไมโครสเกล sputter ท้องถิ่นการแกะสลักในสุญญากาศระบบ หัวฉีดแก๊สแบบ orifice เล็กเป็นแอโนดถูกวางในการการสแกนกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน (SEM)หอการค้าเพื่อผลิตแรงดันก๊าซสูงท้องถิ่น และจัดหาก๊าซอาร์กอนสำหรับรุ่นพลาสม่า DC ที่ระยะสั้นระยะทางช่องว่าง มีศึกษาลักษณะของ sputter ท้องถิ่นการแกะสลัก โดยเจ็ทไมโครพลาสมา ที่ DCพลังงานของ 1.68 สำเร็จโดย orifice เป็น mW ซิลิคอนพ่นอัตราประมาณ 0.01 mm/s40 มม.เส้นผ่านศูนย์กลางที่ 2.5 sccm แก๊สไหลอัตราและ 100 มม.ช่องว่างระยะห่าง ตั้ง sputtered ถูก 60 มม.ในเส้นผ่าศูนย์กลาง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความดันสูงในท้องถิ่นเจ็ทพลาสม่าขนาดเล็กได้รับการเสนอให้ไมโครขนาดแกะสลักพ่นท้องถิ่นในสูญญากาศ
ระบบ หัวฉีดก๊าซปากขนาดเล็กเป็นขั้วบวกถูกวางไว้ในกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน (SEM)
ห้องในการผลิตก๊าซแรงดันสูงท้องถิ่นและก๊าซอาร์กอนในการผลิตพลาสม่าซีที่สั้น
ระยะช่องว่าง ลักษณะของการแกะสลักพ่นท้องถิ่นโดยเจ็ทพลาสม่าขนาดเล็กได้รับการศึกษา ที่ DC
อำนาจของ 1.68 mW อัตราสปัตเตอร์ซิลิกอนประมาณ 0.01 mm / s ก็ประสบความสำเร็จโดยใช้ปาก
40 มิลลิเมตรเส้นผ่าศูนย์กลาง 2.5 SCCM อัตราการไหลของก๊าซและ 100 มิลลิเมตรระยะช่องว่าง พื้นที่ sputtered 60 มิลลิเมตร
เส้นผ่าศูนย์กลาง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ท้องถิ่น ความดันสูง ไมโครพลาสมาถูกเสนอสำหรับไมโครสเกลท้องถิ่นละล่ำละลักแกะสลักในระบบสุญญากาศ

แก๊สหัวฉีดปากเล็กเป็นแอโนดที่ถูกวางไว้ในกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด ( SEM )
ห้องผลิตท้องถิ่นสูงความดันก๊าซก๊าซอาร์กอนพลาสมารุ่น DC อุปทานที่ช่องว่างระยะห่างสั้น

ลักษณะของภาพโดยเจ็ทพลาสมาท้องถิ่นละล่ำละลักไมโครเพื่อ ที่ DC
พลัง 1.68 เมกะวัตต์ ซิลิคอนรายงานอัตราประมาณ 0.01 mm / s ทำโดยใช้ปาก
40 มม. เส้นผ่าศูนย์กลาง 2.5 sccm อัตราการไหลของแก๊ส และ ช่องว่างระยะห่าง 100 มม. การ sputtered พื้นที่ 60 มิลลิเมตรในเส้นผ่าศูนย์กลาง

.