Colloidal Silica Polishing. Colloid

Colloidal Silica Polishing. Colloidal silica polishing a processing method based on the characteristic colloidal phenomenon through the use of a slurry with superfine particles of several 10 to several 100 Å suspended in a pH-controlled processing solution (e.g., alkali solution of pH ∼12). Thin colloidal silica exist between an artificial leather-like soft polisher and the workpiece. Once a shearing force is set to work in a horizontal direction under high pressure, the gelation phenomenon inherent in colloids is induced temporarily, a process known as dilatancy phenomenon. In this mechanism, polishing is accelerated by the mechanical microremoval action of an atomic/molecular order mainly through cohesive and abrasive actions of SiO2 fine particles that are held in the apparently gelated solutions (Figure 6.27) [37].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ซิลิก้า colloidal ขัด ซิลิก้า colloidal ขัดวิธีการประมวลผลตามปรากฏการณ์ colloidal ลักษณะโดยใช้น้ำกับอนุภาค superfine หลาย 10 หลาย 100 Åระงับในโซลูชันประมวลผลควบคุม pH (เช่น อัลคาไลโซลูชั่นของ pH ∼12) ซิลิก้า colloidal บางอยู่ระหว่างการขัดเงานุ่มเหมือนหนังเทียมและการขึ้นรูปชิ้นงาน เมื่อกองทัพตัดถูกตั้งค่าให้ทำงานในทิศทางแนวนอนภายใต้ความดันสูง ปรากฏการณ์ gelation ในคอลลอยด์จะเกิดชั่วคราว เป็นกระบวนการที่เรียกว่าปรากฏการณ์ dilatancy ขัดจะเร่งในกลไกนี้ โดยการกระทำกล microremoval ของใบอะตอม/โมเลกุลส่วนใหญ่ผ่านการดำเนินการควบ และ abrasive ของ SiO2 ละอองที่จัดขึ้นในโซลูชั่น gelated เห็นได้ชัด (รูป 6.27) [37]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Colloidal ขัดซิลิกา ซิลิกาคอลลอยด์ขัดวิธีการประมวลผลบนพื้นฐานของปรากฏการณ์คอลลอยด์ลักษณะผ่านการใช้สารละลายที่มีอนุภาคพิสิฐหลาย 10 ถึงหลาย 100 ที่ถูกระงับในการแก้ปัญหาการประมวลผลที่มีการควบคุมความเป็นกรดด่าง (เช่นการแก้ปัญหาด่างค่า pH ~12) ซิลิกาคอลลอยด์บางอยู่ระหว่างหนังเทียมเช่นขัดนุ่มและชิ้นงาน เมื่อแรงตัดมีการตั้งค่าการทำงานในแนวนอนภายใต้ความกดดันสูงปรากฏการณ์เจอยู่ในคอลลอยด์จะเหนี่ยวนำให้เกิดชั่วคราวกระบวนการที่เรียกว่าปรากฏการณ์ขยายตัวภาย ในกลไกนี้ขัดจะเร่งดำเนินการโดย microremoval กลของอะตอม / โมเลกุลเพื่อที่ส่วนใหญ่ผ่านการกระทำที่เหนียวและขัดอนุภาค SiO2 ที่มีการจัดขึ้นในการแก้ปัญหาที่เห็นได้ชัด gelated (รูปที่ 6.27) [37]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ซิลิกาคอลลอยด์ ขัด ซิลิกาคอลลอยด์ polishing กระบวนการแปรรูปตามปรากฏการณ์คอลลอยด์ลักษณะผ่านการใช้สารละลายที่มีอนุภาคเป็นพิเศษหลาย 10 หลาย 100 •แขวนลอยใน pH โซลูชั่นควบคุมการประมวลผล เช่น ด่าง pH ∼ 12 ) บางซิลิกาคอลลอยด์มีอยู่ระหว่างหนังเทียมเหมือนขัดนุ่ม และชิ้นงานเมื่อแรงเฉือนถูกตั้งค่าให้ทำงานในทิศทางแนวนอนภายใต้ความดันสูง เจลาตินปรากฏการณ์โดยธรรมชาติในคอลลอยด์เป็นการชั่วคราว กระบวนการที่เรียกว่าปรากฏการณ์การทรุดตัวไม่เท่ากัน . ในกลไกนี้ขัดเป็นเร่งโดยการกระทำ microremoval เชิงกลของคำสั่งโมเลกุลอะตอม / ส่วนใหญ่ผ่านดูน่าสนใจและขัดการกระทำของอนุภาคซิลิกอนไดออกไซด์ที่จัดขึ้นที่เห็นได้ชัด gelated โซลูชั่น ( รูป 6.27 ) [ 37 ]