Mushrooms are prone to microbial sp

Mushrooms are prone to microbial spoilage and browning during growing and processing. Ultraviolet
light (254 nm, UV-C) has been used as an alternative technology to chemical sanitizersfor food products.
Hydrogen peroxide (H2O2) is classified as generally recognized as safe for use in foods as a bleaching and
antimicrobial agent, and could control the bacterial blotch and browning of mushrooms. This study
investigated the effects of water wash (control), 3% H2O2 wash, 0.45 kJ m
2 UV-C, and combination of
H2O2 and UV-C (H2O2 þ UV) on microbial loads and product quality of mushrooms during storage for 14
days at 4 C. Additionally, the inactivation of Escherichia coli O157:H7 inoculated on mushrooms was
determined. Results showed that water wash, H2O2, UV-C and H2O2 þ UV resulted in 0.44, 0.77, 0.85, and
0.87 logs CFU g
1 reduction of E. coli O157:H7, respectively. Hydrogen peroxide, UV-C and the combination
reduced total aerobic plate counts on the surface of mushrooms by 0.2e1.4 logs CFU g
1 compared
to the control, while there was no significant difference among the three treatments during storage. After
storage, UV-C treated mushrooms had similar L* and a* values as the control while H2O2 and H2O2 þ UVC
treated mushrooms had higher L* (lighter) and lower a* (less brown) values than the control.
Compared to water wash, all the treatments inhibited lesion development on the mushroom surface on
day 14. The combination of H2O2 and UV achieved the best overall dual control of lesion and browning.
There was no significant difference in ascorbic acid and total phenolic content among the treatments.
Overall our results suggested that H2O2 þ UV reduced microbial loads, and extended storage life by
reducing lesion development without causing deterioration in nutritional quality of button mushrooms.
Therefore, when properly utilized, H2O2 þ UV could potentially be used for maintaining postharvest
quality while marginally reducing populations of E. coli O157:H7 and background microflora.
Published by Elsevier Lt

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เห็ดมีแนวโน้มที่จะเน่าเสียจุลินทรีย์ และสีน้ำตาลในระหว่างการเจริญเติบโต และการประมวลผล รังสีอัลตราไวโอเลตแสง (254 nm, UV-C) มีการใช้เป็นเทคโนโลยีการสำรองเพื่อผลิตภัณฑ์อาหารเคมี sanitizersforจัดไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ (H2O2) รู้ได้โดยทั่วไปเป็นที่ปลอดภัยสำหรับการใช้ในอาหารเป็นตัวฟอกสี และจุลชีพ และสามารถควบคุมแผลแบคทีเรีย และสีน้ำตาลของเห็ด การศึกษานี้ตรวจสอบผลกระทบของน้ำล้าง (ควบคุม), ซัก 3% H2O2, 0.45 kJ ม. 2 UV-C และชุดของH2O2 และ UV-C (H2O2 þ UV) โหลดจุลินทรีย์และผลิตภัณฑ์คุณภาพของเห็ดระหว่างการเก็บรักษาสำหรับ 14วันที่ 4 ค.นอกจากนี้ มีฤทธิ์ Escherichia coli O157:H7 inoculated บนเห็ดกำหนด ผลการศึกษาพบว่า น้ำล้าง H2O2, UV-C และ H2O2 þ UV ผล 0.44, 0.77, 0.85 และ0.87 ล็อกลด O157:H7 E. coli, g 1 CFU ตามลำดับ ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ ยูวี และการรวมกันลดแผ่นแอโรบิกรวมนับบนผิวของเห็ดโดยบันทึก 0.2e1.4 CFU g 1 เปรียบเทียบการควบคุม ในขณะที่มีไม่มีความแตกต่างที่สำคัญระหว่างการรักษาสามระหว่างการเก็บรักษา หลังจากเก็บ UV-C ถือว่าเห็ดมีคล้าย L * และ * ค่าเป็นตัวควบคุมในขณะที่ H2O2 และ H2O2 þ UVCรักษาเห็ดได้ L สูง * (เบา) และต่ำ * ค่า (น้ำตาลน้อย) มากกว่าการควบคุมเมื่อเทียบกับน้ำล้าง การรักษายับยั้งแผลพัฒนาบนผิวเห็ดบนวันที่ 14 ชุดของ H2O2 และ UV ได้ควบคุมคู่โดยรวมที่ดีสุดของรอยโรคและสีน้ำตาลไม่มีความแตกต่างที่สำคัญในกรดแอสคอร์บิคและรวมฟีนอเนื้อหาระหว่างการรักษาได้โดยรวม ผลของเราแนะนำว่า H2O2 þ UV ลดปริมาณจุลินทรีย์ และขยายอายุการเก็บรักษาโดยลดรอยแผลพัฒนาไม่ก่อให้เกิดการเสื่อมคุณภาพทางโภชนาการของเห็ดแชมปิญองดังนั้น เมื่อใช้อย่างถูกต้อง H2O2 þ UV อาจถูกใช้สำหรับการรักษามะม่วงคุณภาพลดประชากรของจุลินทรีย์ใน E. coli O157:H7 และฉากหลังเล็กน้อยเผยแพร่ โดย Elsevier Lt

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เห็ดมีแนวโน้มที่จะเน่าเสียจุลินทรีย์และการเกิดสีน้ำตาลในช่วงการเจริญเติบโตและการประมวลผล รังสีอัลตราไวโอเลต
แสง (254 นาโนเมตรรังสี UV-C) ได้ถูกนำมาใช้เป็นเทคโนโลยีทางเลือกสารเคมี sanitizersfor ผลิตภัณฑ์อาหาร.
ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ (H2O2) จัดเป็นที่ยอมรับกันโดยทั่วไปว่าปลอดภัยสำหรับการใช้ในอาหารเป็นฟอกขาวและ
สารต้านจุลชีพและสามารถควบคุม ตุ่มแบคทีเรียและการเกิดสีน้ำตาลของเห็ด การศึกษาครั้งนี้
การตรวจสอบผลกระทบของการล้างน้ำ (Control) ล้าง H2O2 3%, 0.45 กิโลจูล M? 2 UV-C, และการรวมกันของ
H2O2 และ UV-C (H2O2 Þ UV) ในการโหลดของจุลินทรีย์และคุณภาพของผลิตภัณฑ์ของเห็ดในระหว่างการจัดเก็บข้อมูลสำหรับ 14
วันที่ 4 องศาเซลเซียสนอกจากนี้การใช้งานของ Escherichia coli O157 นี้: H7 เชื้อเห็ดบนถูก
กำหนด ผลการศึกษาพบว่าการล้างน้ำ H2O2, UV-C และ H2O2 Þ UV ส่งผลให้ 0.44, 0.77, 0.85 และ
0.87 กรัมบันทึก CFU 1 การลดลงของเชื้อ E. coli O157: H7 ตามลำดับ ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์, UV-C และการรวมกัน
ลดลงนับจานแอโรบิกรวมบนพื้นผิวของเห็ดโดย 0.2e1.4 บันทึก CFU กรัม 1 เมื่อเทียบ
กับกลุ่มควบคุมในขณะที่ไม่มีความแตกต่างที่สำคัญระหว่างสามการรักษาระหว่างการเก็บรักษา หลังจาก
การจัดเก็บรังสี UV-C ได้รับการรักษาเห็ดมีค่า L * ที่คล้ายกันและค่า * การควบคุมในขณะที่ H2O2 และ H2O2 Þ UVC
รับการรักษาเห็ดมี L สูงกว่า * (เบา) และลด A * (สีน้ำตาลน้อยกว่า) ค่ากว่ากลุ่มควบคุม.
เมื่อเทียบกับน้ำ ล้างการรักษาทั้งหมดยับยั้งการพัฒนาแผลบนพื้นผิวเห็ดใน
วัน 14. การรวมกันของ H2O2 และรังสียูวีที่ประสบความสำเร็จในการควบคุมคู่ที่ดีที่สุดโดยรวมของรอยโรคและการเกิดสีน้ำตาล.
ไม่มีความแตกต่างอย่างมีนัยสำคัญในวิตามินซีและเนื้อหาฟีนอลรวมของผู้รักษาเป็น.
โดยรวม ผลของเราชี้ให้เห็นว่า H2O2 Þ UV ลดโหลดของจุลินทรีย์และยืดอายุการเก็บรักษาโดย
การลดการพัฒนาแผลโดยไม่ทำให้เกิดการเสื่อมสภาพในคุณภาพทางโภชนาการของเห็ดปุ่ม.
ดังนั้นเมื่อใช้อย่างถูกต้อง, H2O2 Þยูวีอาจจะถูกนำมาใช้ในการรักษาหลังการเก็บเกี่ยว
ที่มีคุณภาพในขณะที่มีขอบเขตการลดประชากร ของเชื้อ E. coli O157:. H7 และพื้นหลังจุลินทรีย์ที่
จัดทำโดย Elsevier ขีดข่วน