However, the process is limited by

However, the process is limited by low deposition rates, low ionisation e$ciencies in the plasma, and high substrate heating e!ects

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อย่างไรก็ตาม กระบวนการจะถูกจำกัด โดยราคาสะสมต่ำ ต่ำ ionisation e$ ciencies ในพลาสมา และพื้นผิวสูงความร้อน e ! ects

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อย่างไรก็ตามกระบวนการถูก จำกัด ด้วยอัตราการสะสมต่ำ Ionisation ต่ำอี ciencies $ ในพลาสม่า, และ e ความร้อนพื้นผิวสูง ECTS!

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อย่างไรก็ตาม กระบวนการจะถูก จำกัด โดยอัตราการสะสมต่ำกว่า ionisation E $ ciencies ในพลาสมา และความร้อนสูง ( E ! ผล