Also, thereduction of grain size in

Also, the
reduction of grain size indicates the amorphization of the film associated
with an increase of the CrN lattice parameter to 4.1682 Å.
With a further increase in Si content leads to a reduction in lattice
parameters due to the migration of N from CrN at the grain boundaries
to form an amorphous silicon nitride (SiNx) compound [9,10].
The detail analysis shows that the intensity of a dominating peak
(1 1 1) is decreasing, from (a) to (e), with increase in Si content but
(2 0 0) intensity is increasing up to 6.33 at.% Si, during deposition in
both the deposition on SS 304 and Si(1 0 0) substrates. In addition,
a peak broadening occurs, indicating a reduction in particle size.
A further increases in Si (up to 14.88 at.% Si) content reduce the
peak intensity of (2 0 0) orientation with broadening. Finally, all the
peaks are suppressed at very high Si content (at 18.65 at.% Si), crystallinity
is almost negligible, indicating an amorphous structure due
to formation of SiN phase. There is no evidence of crystalline peaks
of Six−1Nx (silicides) in the XRD patterns of SS304 as well as Si(1 0 0)
substrates, as reported in the literature [9,13–16].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ยัง
ลดเมล็ดขนาดบ่งชี้ amorphization ฟิล์มที่เชื่อมโยง
กับการเพิ่มขึ้นของพารามิเตอร์เป็นโครงตาข่ายประกอบ CrN 4.1682 Å
มีเพิ่มเติมในซี เนื้อหานำไปลดในโครงตาข่ายประกอบ
พารามิเตอร์เนื่องจากการโยกย้ายของ N จาก CrN ที่ขอบเม็ด
แบบมีซิลิคอนไป nitride (SiNx) ผสม [9,10]
การวิเคราะห์รายละเอียดแสดงให้เห็นว่าความรุนแรงของพลังอำนาจเหนือสูงสุด
(1 1 1) จะลดลง จาก (a) กับ (e), มีเพิ่มขึ้นในเนื้อหา แต่
(2 0 0) ความเข้มเพิ่ม 6.33 ถึง at.% ศรี ในระหว่างสะสมใน
สะสมทั้งสองแบบใน SS 304 และ Si(1 0 0) พื้นผิว นอกจากนี้,
broadening สูงสุดที่เกิดขึ้น แสดงการลดขนาดอนุภาค
เพิ่มขึ้นต่อไปในซี (สูงสุด 14.88 ที่ลด% Si) เนื้อหา
ความเข้มสูงสุดของ (2 0 0) วางแนวกับ broadening ในที่สุด ทั้งหมด
ถูกระงับยอดเขาที่สูงมากในเนื้อหา (ที่ 18.65 at.% ศรี), crystallinity
เป็นระยะเกือบ แสดงเป็นโครงสร้างไปครบกำหนด
การก่อตัวของขั้นตอนการทำบาป ไม่มีหลักฐานของผลึกพีคส์
ของ Six−1Nx (silicides) ในรูปแบบของ SS304 XRD ที่เป็น Si(1 0 0)
พื้นผิว ตามรายงานในวรรณคดี [9,13-16]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

นอกจากนี้ การลดขนาดเกรน พบว่า

มี amorphization ของภาพยนตร์ที่มีการเพิ่มขึ้นของ CRN แลตทิซพารามิเตอร์ 4.1682 กริพเพน .
กับการเพิ่มขึ้นต่อไปในจังหวัด นำไปสู่การลดเนื้อหาในพารามิเตอร์ขัดแตะ
เนื่องจากการย้ายถิ่นของ N จาก CRN ที่ขอบเขตเม็ด
แบบฟอร์ม ( ชนิดอะมอร์ฟัสซิลิกอนไนไตรด์ sinx ) สารประกอบ 9,10
[ ]การวิเคราะห์รายละเอียด พบว่า ความเข้มของการเป็นยอด
( 1 , 1 ) จะลดลงจาก ( ) ( E ) เพิ่มขึ้นในจังหวัดแต่ปริมาณ
( 2 0 0 ) ความเข้มเพิ่มขึ้นถึง 6.33 ที่ ปริมาณซิลิกอนในคำให้การของพยานใน
ทั้งสะสมใน SS 304 และจังหวัด 1 0 0 ) ท นอกจากนี้
สูงสุดขยายขึ้น ซึ่งการลดขนาดของอนุภาค การเพิ่มขึ้นในจังหวัด ( ถึงนักที่ปริมาณซิลิกอน ) เนื้อหาลดความเข้มสูงสุด ( 2
0 0 ) ปฐมนิเทศกับขยาย ในที่สุด ยอดทั้งหมด
ถูกระงับที่ปริมาณสูงมากศรี ( 18.65 ที่ ปริมาณซิลิกอน ) , ผลึก
เกือบจะกระจอก ซึ่งเป็นโครงสร้างอสัณฐานเนื่องจาก
สร้างเฟสบาป ไม่มีหลักฐานของผลึกยอด
6 − 1nx ( silicides XRD ) ในรูปแบบของ SS304 รวมทั้งจังหวัด ( 1 0 0 )
พื้นผิวตามที่รายงานในวรรณคดี 9,13 ) [ 16 ]