with respect to a baseline drawn fr

with respect to a baseline drawn from 355 nm through 340 nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เกี่ยวกับพื้นฐานการวาดจาก 355 nm ผ่าน 340 nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ที่เกี่ยวกับพื้นฐานมาจาก 355 นาโนเมตรผ่าน 340 นาโนเมตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ด้วยความเคารพพื้นฐานจาก 355 nm ถึง 340 นาโนเมตร