Fig. 4 Characterization of nanomate

Fig. 4 Characterization of nanomaterial alignment and density. (a)
Optical image of a 0.10 wt% SiNW-BBF on 150 mm Si wafer. Insets,
dark-field (DF) optical images showing aligned SiNWs at different
locations. Scale bar: 10 mm. (b) The NW spacing and density versus NW
loading plot. Insets, two DF optical images taken from 0.03 and 0.15 wt%
SiNW-BBFs. Scale bars: 20 mm (left), 10 mm (right). Adapted from Ref. 27.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Fig. 4 การจำแนกตำแหน่ง nanomaterial และความหนาแน่น (a)ภาพแสง 0.10 wt % SiNW เบดบนแผ่นเวเฟอร์ซิ 150 มม. Insetsภาพแสงมืดฟิลด์ (DF) ที่แสดงการจัดตำแหน่ง SiNWs ที่แตกต่างกันสถาน แถบมาตราส่วน: NW ระยะ 10 mm. (b) และความหนาแน่นเทียบกับ NWโหลดแผน Insets สอง DF แสงภาพถ่ายจาก 0.03 และ 0.15 wt %SiNW-BBFs. สเกลบาร์: 20 มม. (ซ้าย), 10 มม. (ขวา) ดัดแปลงจากอ้างอิง 27

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปที่ 4 ลักษณะของการจัดตำแหน่งและความหนาแน่นของวัสดุนาโน (ก)
ภาพแสงของน้ำหนัก 0.10% SiNW-ลัดฟ้า 150 มมศรีเวเฟอร์ ขุ่น,
สนามมืด (DF) ภาพแสงแสดง SiNWs ชิดที่แตกต่างกัน
สถานที่ บาร์ขนาด 10 มม (ข) การเว้นวรรค NW และความหนาแน่นเมื่อเทียบกับ NW
พล็อตในการโหลด ขุ่นสอง DF ภาพแสงจาก 0.03 และ 0.15% โดยน้ำหนัก
SiNW-BBFs บาร์ขนาด: 20 มม (ซ้าย), 10 มม (ขวา) ที่ดัดแปลงมาจากการอ้างอิง 27

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปที่ 4 การจัดวัสดุนาโนและความหนาแน่น ( A )
ภาพแสงของ BBF sinw 0.10 เปอร์เซ็นต์ บนเวเฟอร์ซี 150 มิลลิเมตร insets
ถ่ายอุจจาระ , ( DF ) ฉายภาพการแสดงชิด sinws ที่สถานที่ต่างๆ

บาร์ขนาด : 10 มม. ( ข ) NW ระยะห่างและความหนาแน่นเมื่อเทียบกับ NW
โหลดแปลง insets สองคือ แสง ภาพที่ถ่ายจาก 0.03 และ 0.15 เปอร์เซ็นต์
sinw ต่างพากัน . บาร์ขนาด 20 มม. 10 มม. ( ซ้าย ) , ( ขวา )ดัดแปลงจาก 27 Ref .